半导体材料是在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电等领域进行应用的。半导体材料在应用中会需要一定量的超纯水，可用于清洗，该超纯水电阻率达到了18兆欧，不含导电介质和金属离子，可满足作为半导体清洗用水的需求。采用两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺，处理后的水质可达到18MΩ.CM以上，符合半导体用水标准。设备采用如今大热的膜技术，可有效去除水中的导电介质，以及水中不离解的胶体物质、气体及有机物，设备的出水纯度高，无病毒与***，不含任何悬浮物、无化学污染，产出的可谓是高品的超纯水了
工业纯水设备中EDI工艺的优势
工业纯水设备中EDI工艺的优势
连续产出超纯水，出水水质具有的稳定度，以高产率产生超纯水(产率可以高达95%)；
模块化生产，实现设备的全自动控制；
不需要酸碱再生，不会因为再生而停机；
不需要酸碱稀释运输设施和酸碱储备；
设备结构紧凑，体积小，半导体纯水设备，占地面积少；
使用，避免人工接触酸碱；
节省了反冲和清洗用水，无再生污水，不须污水处理设备；
安装简单方便，安装费用低廉;减低设备的运行成本及维修成本；
设备运行操作简单，劳动强度较低；
超纯水的“有效期”是多久？1、即取即用 超纯水取水后很容易遭到环境污染，电子纯水设备，所以即取即用方式更合适。只有把超纯水与环境接触的时间缩短，才能够获得纯度极高的超纯水。 2、存放时间 在配制高纯度的化学***时，尽量不要使用长时间储桶中存放的超纯水，天津纯水设备，因为储桶经长时间使用后，会因杂质、微生物的污染而造成水质的劣化，储存时间过长会导致超纯水在使用时已经不再是超纯水。 3、纯水储桶需安装空气过滤器，防止环境因素造成的污染。
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