真空电镀
工艺特点工艺成本模具费用（无）单件费用（中）批量生产（中）
典型应用反射涂层；消费电子产品和隔热板的表面处理；产量范围单件到大批量皆可质量优势适合高质量，深圳真空电镀厂家，高亮和产品表面保护层生产效率速度慢，具体取决于设备内靶材存放量，通常为6小时/周期（包括喷漆工序）
真空电镀适用材料几乎所有金属、合金、及陶瓷材料。自然材料会影响真空环境，东莞真空电镀厂，不适合真空电镀。除了自然材料以外，适合真空电镀的材料包括金属类材料、软硬塑料（ABS料、ABS+PC料、PC料等等）、复合材料、陶瓷、和玻璃等。常用于真空电镀表面处理的是铝、其次是银和铜。
真空电镀：Vacuum Metalizing，即是物***相沉积（PVD），即在真空下将原子打到靶材表面上达到镀膜的目的。早运用于光学镜片，如航海望远镜镜片，深圳真空电镀，后来随着技术的改进，延伸到了唱片、磁盘、光盘、手机外壳、机械刀具等材料上的装饰镀膜、材料表面改性等。
设计考虑因素
真空电镀所使用设备通常较为高昂，加上工艺流程复杂，对环境要求高；为此真空电镀单价比水电镀昂贵。
真空电镀受设备内真空环境体积影响，因此对靶材尺寸有一定的要求，不适合大靶材，常见的真空腔室内靶材应小于1.2 * 1.1m（3.94 * 3.3ft），3D工件应小于1.2 * 0.5m（3.94 * 1.6ft）
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