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广东省科学院半导体研究所

普通会员4
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企业等级:普通会员
经营模式:生产加工
所在地区:广东 广州
联系卖家:曾经理
手机号码:15018420573
公司官网:www.micronanolab.com
企业地址:广州市天河区长兴路363号
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企业概况

广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一,其前身是2010年10月在成立的广东半导体照明产业技术研究院。2015年6月经省政府批准,由原广东省科学院、广东省工业技术研究院(广州有色金属研究院)、广东省测试分析研究所(中国广州分析测试中心)、广东省石油化工研究院等研究院所整合重组新广......

氧化硅真空镀膜价钱-湖北真空镀膜价钱-半导体微纳

产品编号:1000000000024085981                    更新时间:2023-04-14
价格: 来电议定
广东省科学院半导体研究所

广东省科学院半导体研究所

  • 主营业务:深硅刻蚀,真空镀膜,磁控溅射,材料刻蚀,紫外光刻
  • 公司官网:www.micronanolab.com
  • 公司地址:广州市天河区长兴路363号

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真空镀膜价钱MEMS真空镀膜加工平台——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一,主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究,兼顾重大技术应用的基础研究,立足于广东省经济社会发展的实际需要,从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究,以及行业应用技术开发。


溅射靶材均匀性对大面积镀膜的影响

对于合金溅射靶材来说,往往存在材料分布不均的情况。如***靶材中铝团聚,湖北真空镀膜价钱,锌铝靶材中铝偏析(铝的原子质量比锌的原子质量65少27。铝在浇注后冷却过程中会上浮,氧化钛真空镀膜价钱,导致铝含量一侧高另一侧低)。由于熔点低,氧化锌真空镀膜价钱,***靶中的团聚铝在溅射成膜时很容易掉渣,而在喷涂过程中加入的铝量是一定的。一部分铝团聚表明其他位置的铝含量较少,影响了硅靶的热导率和电导率。所以溅射速率不一致,成膜均匀性差,靶材,靶材放电加剧。它还降低了成膜质量。靶材成分的偏析会影响溅射速率(薄膜均匀性)和薄膜成分。因此,除了控制靶材的纯度外,合金靶材的分布也很关键。


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可变参数

在溅射过程中,通过改变改变这些参数可以进行工艺的动态控制。这些可变参数包括:功率、速度、气体的种类和压强。

功率

每一个阴极都具有自己的电源。根据阴极的尺寸和系统设计,功率可以在0 ~ 150KW(标称值)之间变化。电源是一个恒流源。在功率控制模式下,功率固定同时监控电压,通过改变输出电流来维持恒定的功率。在电流控制模式下,固定并监控输出电流,氧化硅真空镀膜价钱,这时可以调节电压。施加的功率越高,沉积速率就越大。



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真空镀膜冷水机结构:

1、真空泵(进口);

2、水箱、水泵;

3、冷却塔;

4、冷凝器;

5、压缩机;

6、过滤器;

7、膨胀阀;

8、压力表;

9、电控箱。

真空泵的作用是将压缩空气进行减压,然后送到水箱里。

水箱的作用是储存冷媒水,并起到散热作用。 水泵的作用是将冷媒水加压送入冷却塔中。 冷凝器的作用是使进入蒸发器的热交换气体降温,同时将制冷剂在蒸发器中的液化气放掉一部分。

膨胀阀的作用是当制冷系统出现故障时自动开启排气口,释放出系统中多余的压力和热量。

电控柜的功能是对整个系统的控制及保护功能。(包括对温度的控制、压力的监控、过电流的保护等等)。




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