在半导体生产中，超纯水主要用于清洗硅片。少量水用于配制药剂、硅片氧化的蒸汽源、某些设备的冷却水、电镀溶液的配制。集成电路产品的质量与产量密切相关。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，***(Au、Ag、Cu等)会降低PN结的耐压力，III族元素 (B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化。***高温炭化水中的磷(约为灰分的20%~50%)会使p型硅片局部变为N型硅片，导致器件性能下降。水中的颗粒，包括***，如果附着在硅片表面，会导致短路或性能恶化。可见，超纯水在半导体行业的必要性。
EDI是一种结合了离子交换技术的纯水制造技术
EDI是一种结合了离子交换技术、离子交换膜技术和离子电迁移技术的纯水制造技术。它巧妙地将电渗析和离子交换技术相结合，利用两端的高压电极使带电离子在水中移动，并配合离子交换树脂和选择性树脂膜加速去除离子运动，从而达到净化水质的目的。EDI脱盐过程中，离子在电场作用下通过离子交换膜被除去。同时，水分子在电场作用下产生氢离子和氢氧根离子，这些离子不断地对离子交换树脂进行再生，保定edi纯水设备，使离子交换树脂保持在理想状态。
EDI设备的优点：
1、连续产出超纯水，edi纯水设备生产，出水水质具有较高的稳定度，以高产率产生超纯水，edi纯水设备报价，产率可以高达95%。
2、模块化生产，实现设备的全自动控制。设备结构紧凑，体积小，占地面积小。
3、不需要酸碱再生，不会因为再生而停机。设备运行操作简单，edi纯水设备厂家，劳动强度较低。
4、不需要酸碱稀释运输设施和酸碱储备。使用，避免人工接触酸碱。
5、节省了反冲和清洗用水，无再生污水，不需要污水处理设备。安装简单方便，安装费用低。降低设备的运行成本及维修成本。
设备材料：EDI超纯水系统通常采用玻璃钢和不锈钢制造。此时，应根据水处理工艺确定。
出水：由于超纯水不能直接与空气接触，所以在整个EDI超纯水系统的末端设置一个纯水水箱。纯水水箱的大小主要取决于企业每小时所需的水量。
现场考察：在运行条件下，建议在EDI超纯水系统制造商现场进行现场考察，或先在线查看制造商的成功案例。
***服务：部分厂家只负责销售，不负责***流程。一旦像这样大的设备出现问题，那就是成千上万的问题。因此，在采购时，首先要了解厂家是否有***服务项目。
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