EDI超纯水设备电阻率下降原因有哪些？
有机物污染
EDI纯水设备进水中的有机胶体受到污染，纯水设备，反渗透只能去除相对分子量大于200的有机胶体。如果分子量低于200，edi纯水设备，它将进入EDI超纯水设备。这部分低分子量材料被组件中的阴阳离子交换树脂吸附在骨架的网格和阴阳离子膜的表面上，阻碍了阴阳离子的置换反应和水离子穿透阴阳离子膜的速度，导致EDI工作性能下降，电阻率下降。
工业纯水设备中EDI工艺的优势
工业纯水设备中EDI工艺的优势
连续产出超纯水，出水水质具有的稳定度，超纯水设备，以高产率产生超纯水(产率可以高达95%)；
模块化生产，实现设备的全自动控制；
不需要酸碱再生，不会因为再生而停机；
不需要酸碱稀释运输设施和酸碱储备；
设备结构紧凑，体积小，占地面积少；
使用，避免人工接触酸碱；
节省了反冲和清洗用水，无再生污水，不须污水处理设备；
安装简单方便，安装费用低廉;减低设备的运行成本及维修成本；
设备运行操作简单，劳动强度较低；
在半导体生产中，超纯水主要用于清洗硅片。少量水用于配制药剂、硅片氧化的蒸汽源、某些设备的冷却水、电镀溶液的配制。集成电路产品的质量与产量密切相关。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，***(Au、Ag、Cu等)会降低PN结的耐压力，III族元素 (B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化。***高温炭化水中的磷(约为灰分的20%~50%)会使p型硅片局部变为N型硅片，导致器件性能下降。水中的颗粒，包括***，半导体纯水设备，如果附着在硅片表面，会导致短路或性能恶化。可见，超纯水在半导体行业的必要性。
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