考夫曼离子源是应用较早的离子源。属于栅格式离子源。首先由阴极在离子源内腔产生等离子体，派瑞林镀膜加工防水涂层，让后由两层或三层阳极栅格将离子从等离子腔体中抽取出来。这种离子源产生的离子方向性强，派瑞林镀膜加工，离子能量带宽集中，可广泛应用于真空镀膜中。缺点是阴极（往往是钨丝）在反应气体中很快就烧掉了，另外就是离子流量有极限，对需要大离子流量的用户可能不适和。
霍尔离子源是阳极在一个强轴向磁场的协作下将工艺气体等离子化。这个轴向磁场的强不平衡性将气体离子分离并形成离子束。由于轴向磁场的作用太强，派瑞林镀膜加工批量定制，霍尔离子源离子束需要补充电子以中和离子流。常见的中和源就是钨丝（阴极）。
派拉纶（Parylene）涂层工艺是使用化学气相沉积（CVD）工艺在真空下沉积的。派拉纶（Parylene）的（CVD）工艺分为三个步骤（升华，磁环派瑞林镀膜加工，热解，沉积）。首先，将二聚体（具有两个重复单元的前体）升华。下一步，在高于＞ 500°C的温度下通过热解将二聚体裂解为两种单体。然后，单体在基材表面（以及腔室表面）上聚合，形成线性聚合物链。后一步在室温下进行，得到派拉纶（Parylene）保形涂层。通过的真空镀膜机，进行的镀膜加工生产。
派瑞林（Parylene）可以增加铁氧体等磁性材料的介电性及耐高压性能，可以克服普通环氧树脂喷涂等其他涂层工艺处理后不耐磨，不耐酸碱等方面的严重缺陷。其工艺特点：派瑞林（Parylene）涂层物料经蒸发室汽化后进入裂解室后裂解为气体，气体进入沉积室，通过沉积室，即物体表面均匀包覆所述派瑞林层。派瑞林（Parylene）真空气相沉积工艺和磁体覆膜工艺，降低磁体表面的氧化能力，提高磁体的抗蚀性，相比电镀磁体工艺，该镀膜工艺使磁通损失率降低至现有覆膜工艺的50％，且降低了毛坯生产的成本。从而降低企业生产成本，提高产品性能。
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