EDI是一种结合了离子交换技术、离子交换膜技术和离子电迁移技术的纯水制造技术。它巧妙地将电渗析和离子交换技术相结合，利用两端的高压电极使带电离子在水中移动，电子超纯水设备价格，并配合离子交换树脂和选择性树脂膜加速去除离子运动，从而达到净化水质的目的。EDI脱盐过程中，离子在电场作用下通过离子交换膜被除去。同时，水分子在电场作用下产生氢离子和氢氧根离子，这些离子不断地对离子交换树脂进行再生，使离子交换树脂保持在理想状态。
EDI设备的优点：
1、连续产出超纯水，出水水质具有较高的稳定度，以高产率产生超纯水，产率可以高达95%。
2、模块化生产，实现设备的全自动控制。设备结构紧凑，体积小，占地面积小。
3、不需要酸碱再生，不会因为再生而停机。设备运行操作简单，劳动强度较低。
4、不需要酸碱稀释运输设施和酸碱储备。使用，避免人工接触酸碱。
5、节省了反冲和清洗用水，电子超纯水设备安装，无再生污水，不需要污水处理设备。安装简单方便，安装费用低。降低设备的运行成本及维修成本。
?EDI设备的优点：
在半导体生产中，超纯水主要用于清洗硅片。少量水用于配制药剂、硅片氧化的蒸汽源、某些设备的冷却水、电镀溶液的配制。集成电路产品的质量与产量密切相关。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，***(Au、Ag、Cu等)会降低PN结的耐压力，III族元素 (B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化。***高温炭化水中的磷(约为灰分的20%~50%)会使p型硅片局部变为N型硅片，导致器件性能下降。水中的颗粒，包括***，如果附着在硅片表面，会导致短路或性能恶化。可见，超纯水在半导体行业的必要性。
EDI超纯水设备运行过程中电阻率下降的原因与进水水质、压力、流量、电压和进水水质的污染有关，包括以下几点： 1、前置反渗透设备出水不合格 如果原水含盐量较高，建议采用双级反渗透设备设备进行预脱盐，其电导率应保持在1～3μS/cm。若进水CO2含量高，建议使用脱气膜或脱气塔去除CO2。如果pH值偏离中性太大，调整pH值，使EDI进水pH值为7～8。 2、当前的EDI控制系统存在问题 工作电流增大，产水水质不断改善。然而，电子超纯水设备厂家，如果电流在增加到顶点后增加，由于水电离产生过量的H+和OH-离子，除了再生树脂外，大量剩余离子作为载流离子导电。同时，电子超纯水设备，由于大量载流离子在运移过程中积累和堵塞，甚至反扩散，导致产水水质下降。
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