唐山纯水设备-瑞尔环保守护未来-半导体纯水设备

电子超纯水设备让电子行业遇“芯荒” 心不慌芯片的制造过程很复杂，超纯水设备，从设计、生产再到封装和测试，每一步都非常重要。在制造环节中要解决的问题有耗材、晶圆、光刻胶、超纯水、各种离子等。芯片制造的关键设备之一是电子电子超纯水设备，可用于生产芯片清洗的超纯水，而超纯水的质量直接影响到芯片的质量。电子超纯水设备采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理等方法，将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度。超纯水系统设备的脱盐部件为反渗透膜组件、EDI系统和抛光混床，超纯水系统设备通常由预处理部分，反渗透主机部分，后处理部分共同组成。　　电子超纯水设备具有抗污染能力强、节能环保、产水水质稳定、脱盐率高、系统内无死水等优势

超纯水设备出水符合芯片生产用水需求　在芯片生产中，几乎每一道工序都需要超纯水清洗，工件与水直接接触。一旦水质不达标或水中含有杂质，就会降低设备性能，降低产量。确保超纯水的质量是我国自主研发芯片的重要基础。传统的超纯水生产工艺采用阴离子树脂交换设备。这种工艺的缺点是树脂在使用一段时间后会频繁地再生，半导体纯水设备，增加成本。随着膜分离技术的不断成熟，唐山纯水设备，莱特莱德采用反渗透工艺，或反渗透后再采用EDI和抛光混床工艺生产超纯水，出水电导率可达18.2MΩ，EDI纯水设备，满足芯片行业用水需求。随着芯片制造工艺中对设计的需求更小，对纯水水质的要求也越来越严格。莱特莱德芯片超纯水设备能在一定程度上去除水中的二氧化硅、颗粒、***、有机物和微生物，从而达到行业用水要求。

关于光学玻璃应用中的超纯水制备，超纯水设备采用反渗透结合EDI装置相结合的工艺来制备电阻率达到18 MΩ*cm(25℃)的超纯水，完全符合光学玻璃的需求。设备还具有使用寿命长、低耗能、运行成本低、水利用率高、体积小、运行的时间长久等优势，采用的膜技术，有效的去除了水中的导电介质，不离解的胶体物质、气体及有机物等，在保证系统高回收率的同时，还有效提高系统的产水水质。