由于EDI超纯水系统的生产速度和效率远远高于传统纯水生产标准，半导体纯水设备，已成为实验室纯水制备的必备设备之一。不同的EDI超纯水系统可以生产的纯水超纯水质量也不同。
在取水时应注意以下几点：
1、EDI超纯水系统每7-10天冲洗一次，防止***滋生。
2、如果长时间不适用，必须将纯水机和水箱中的水全部排空。
3、EDI超纯水系统取水时，应先排出初始纯水和超纯水，待水质稳定后再取水。
4、不要将EDI超纯水系统和储水箱放置在阳光直射的地方，唐山纯水设备，以防***滋生。
EDI超纯水设备工作原理
半导体材料是在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电等领域进行应用的。半导体材料在应用中会需要一定量的超纯水，可用于清洗，该超纯水电阻率达到了18兆欧，不含导电介质和金属离子，可满足作为半导体清洗用水的需求。采用两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺，处理后的水质可达到18MΩ.CM以上，符合半导体用水标准。设备采用如今大热的膜技术，可有效去除水中的导电介质，以及水中不离解的胶体物质、气体及有机物，设备的出水纯度高，无病毒与***，不含任何悬浮物、无化学污染，产出的可谓是高品的超纯水了
EDI超纯水设备是将电渗析技术和离子交换技术相互结合的一种连续电除盐技术。它利用电极两端的高压使带电离子在水中移动，电子纯水设备，加速离子的去除，从而达到水净化的目的，如今，人们对水质的要求越来越高，水处理技术在不断创新，工业纯水设备中EDI纯水处理技术可算为工艺，很多工业生产过程都离不开工业EDI超纯水设备。
EDI的工作原理
EDI是一种将离子交换技术、离子交换膜技术和离子电迁移技术（电渗析技术）相结合的纯水制造技术。该技术利用离子交换能深度脱盐来克服电渗析极化而脱盐不，又利用电渗析极化而发生水电离产生H+和OH-，这些离子对离子交换树脂进行连续再生，以使离子交换树脂保持状态。
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