EDI超纯水系统进水水质指标控制措施如下：进水CO2的控制。反渗透前可通过加碱调节pH值，edi纯水设备价格，尽可能多地去除CO2，edi纯水设备，也可通过脱气塔和脱气膜去除CO2。进水硬度控制。结合CO2去除，edi纯水设备报价，RO进水可以软化和加碱。当进水含盐量较高时，可加入一级反渗透或纳滤结合脱盐。 TOC控制。结合其他指标要求，增加RO级别以满足要求。浊度和污染指数的控制。浊度和污染指数是RO系统进水控制的主要指标之一。合格的RO出水一般都能满足EDI超纯水系统进水要求。
超纯水系统的四条维护要点
超纯水系统的四条维护要点
1、对于进水的预处理问题。
预处理中的砂滤器和碳滤器，在使用过一段时间后砂碳会积累一些泥沙、杂质胶体等较大的颗粒物，需要进行定期的反冲洗，从而提高过滤效果。
2、膜元件维护。
超纯水系统中的反渗透膜作为重要部件，需要细心维护。在设计系统时应该设置自动冲洗功能，用以冲走膜片表面的污物，***膜通量。
3、定期检查。
运行中我们要定期对系统进行检查，以免出现故障。例如检查和调整必要的零部件、压力阀门等，还有查看压力仪表作好记录。
4、及时清洗。
定期擦拭设备内外表面的死角部位，清除表面污垢。并且超纯水系统停运时，应及时用清水冲净管道中的残液，否则残液变质后会影响再次启动后的正常运行以及产水。
超纯水的水质直接关系到半导体成品率
在半导体生产中，超纯水可用于晶圆漂洗、化学稀释、化学机械研磨、洁净室环境的加湿源等。超纯水的质量直接关系到半导体的成品率，随着半导体元件尺寸的缩小和细度的提高，对超纯水质量的技术要求也在不断提高。
在超纯水生产过程中，只要微粒子、电阻率和TOC与气泡中的某一指标稍有差异，就会使半导体元件生产的合格率下降。
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