在半导体生产中，超纯水主要用于清洗硅片。少量水用于配制药剂、硅片氧化的蒸汽源、某些设备的冷却水、电镀溶液的配制。集成电路产品的质量与产量密切相关。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，***(Au、Ag、Cu等)会降低PN结的耐压力，III族元素 (B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化。***高温炭化水中的磷(约为灰分的20%~50%)会使p型硅片局部变为N型硅片，导致器件性能下降。水中的颗粒，包括***，如果附着在硅片表面，会导致短路或性能恶化。可见，超纯水在半导体行业的必要性。
超纯水的“有效期”是多久？
超纯水的“有效期”是多久？储水桶请勿放置在日光直射处，水温上升，容易造成微生物繁殖。特别是半透明储水桶，也会因为日光通透而造成藻类繁殖。 超纯水取水时一定要将初期的出水放掉，以获得稳定的水质。 取水时让超纯水顺着容器侧壁流入，尽量不要让气泡产生，可降低空气污染。请不要在终端滤器后再连接软管，使用直接取水的方式才能获得高纯度的超纯水。 长时间不用纯水时，应将压力储水桶中的RO水全部放掉以防止污染。 超纯水机若长时间不使用，再次使用时应把初期纯水充分放掉以确保水质。 原则上，纯水机应至少每7~10天通水一次，edi超纯水设备价格，以防止微生物污染。
半导体材料是在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电等领域进行应用的。半导体材料在应用中会需要一定量的超纯水，可用于清洗，该超纯水电阻率达到了18兆欧，不含导电介质和金属离子，可满足作为半导体清洗用水的需求。采用两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺，处理后的水质可达到18MΩ.CM以上，天津edi超纯水设备，符合半导体用水标准。设备采用如今大热的膜技术，可有效去除水中的导电介质，edi超纯水设备报价，以及水中不离解的胶体物质、气体及有机物，设备的出水纯度高，无病毒与***，不含任何悬浮物、无化学污染，产出的可谓是高品的超纯水了
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