EDI超纯水技术受欢迎的原因是什么？与传统混床技术相比，EDI超纯水技术工艺摒弃伴生废酸、废碱污染的传统离子交换技术，具有无化学污染、连续再生、启动操作简单、模块更换方便、产水纯度高、回收率高、占地面积小、微生物污染风险低等优点。这对保护环境和节约能源非常有益。同时，EDI超纯水技术树脂消耗量仅为传统混床的5%，具有较高的成本效益。由于溶解在水中的大多数气体(如二氧化碳)都呈弱电性，EDI可以有效地去除它们。EDI超纯水技术结合了电渗析技术和离子交换技术。通过阴阳离子交换膜的选择性渗透和离子交换树脂的交换
工业纯水设备中EDI工艺的优势
工业纯水设备中EDI工艺的优势
连续产出超纯水，半导体纯水设备报价，出水水质具有的稳定度，以高产率产生超纯水(产率可以高达95%)；
模块化生产，实现设备的全自动控制；
不需要酸碱再生，不会因为再生而停机；
不需要酸碱稀释运输设施和酸碱储备；
设备结构紧凑，保定半导体纯水设备，体积小，占地面积少；
使用，避免人工接触酸碱；
节省了反冲和清洗用水，无再生污水，半导体纯水设备定制，不须污水处理设备；
安装简单方便，安装费用低廉;减低设备的运行成本及维修成本；
设备运行操作简单，劳动强度较低；
超纯水设备出水符合芯片生产用水需求 在芯片生产中，几乎每一道工序都需要超纯水清洗，工件与水直接接触。一旦水质不达标或水中含有杂质，半导体纯水设备价格，就会降低设备性能，降低产量。确保超纯水的质量是我国自主研发芯片的重要基础。传统的超纯水生产工艺采用阴离子树脂交换设备。这种工艺的缺点是树脂在使用一段时间后会频繁地再生，增加成本。随着膜分离技术的不断成熟，莱特莱德采用反渗透工艺，或反渗透后再采用EDI和抛光混床工艺生产超纯水，出水电导率可达18.2MΩ，满足芯片行业用水需求。随着芯片制造工艺中对设计的需求更小，对纯水水质的要求也越来越严格。莱特莱德芯片超纯水设备能在一定程度上去除水中的二氧化硅、颗粒、***、有机物和微生物，从而达到行业用水要求。
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