超纯水系统的四条维护要点
1、对于进水的预处理问题。
预处理中的砂滤器和碳滤器，在使用过一段时间后砂碳会积累一些泥沙、杂质胶体等较大的颗粒物，需要进行定期的反冲洗，超纯水设备，从而提高过滤效果。
2、膜元件维护。
超纯水系统中的反渗透膜作为重要部件，需要细心维护。在设计系统时应该设置自动冲洗功能，用以冲走膜片表面的污物，EDI纯水设备，***膜通量。
3、定期检查。
运行中我们要定期对系统进行检查，以免出现故障。例如检查和调整必要的零部件、压力阀门等，还有查看压力仪表作好记录。
4、及时清洗。
定期擦拭设备内外表面的死角部位，清除表面污垢。并且超纯水系统停运时，应及时用清水冲净管道中的残液，否则残液变质后会影响再次启动后的正常运行以及产水。
EDI超纯水设备工作原理
半导体材料是在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电等领域进行应用的。半导体材料在应用中会需要一定量的超纯水，可用于清洗，该超纯水电阻率达到了18兆欧，不含导电介质和金属离子，可满足作为半导体清洗用水的需求。采用两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺，处理后的水质可达到18MΩ.CM以上，符合半导体用水标准。设备采用如今大热的膜技术，可有效去除水中的导电介质，以及水中不离解的胶体物质、气体及有机物，纯水设备，设备的出水纯度高，无病毒与***，edi纯水设备，不含任何悬浮物、无化学污染，产出的可谓是高品的超纯水了
超纯水，也称为UP水，是指电阻率为18 mΩ*cm(25℃)的水。除水分子外，这种水几乎不含杂质、***、病毒、氯化和其他有机物质。当然，也不含***所需的矿物质微量元素，也就是说，水几乎不含有除氧和氢以外的所有原子。它可用于使用蒸馏、去离子、反渗透技术或其他适当的临界精细技术制备超纯材料(半导体原材料、纳米精细陶瓷材料等)的过程。
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