半导体材料是在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电等领域进行应用的。半导体材料在应用中会需要一定量的超纯水，可用于清洗，该超纯水电阻率达到了18兆欧，不含导电介质和金属离子，可满足作为半导体清洗用水的需求。采用两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺，EDI纯水设备，处理后的水质可达到18MΩ.CM以上，符合半导体用水标准。设备采用如今大热的膜技术，可有效去除水中的导电介质，以及水中不离解的胶体物质、气体及有机物，设备的出水纯度高，无病毒与***，不含任何悬浮物、无化学污染，产出的可谓是高品的超纯水了
?EDI设备的优点：
在半导体生产中，超纯水主要用于清洗硅片。少量水用于配制药剂、硅片氧化的蒸汽源、某些设备的冷却水、电镀溶液的配制。集成电路产品的质量与产量密切相关。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，***(Au、Ag、Cu等)会降低PN结的耐压力，半导体纯水设备，III族元素 (B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化。***高温炭化水中的磷(约为灰分的20%~50%)会使p型硅片局部变为N型硅片，导致器件性能下降。水中的颗粒，包括***，天津纯水设备，如果附着在硅片表面，会导致短路或性能恶化。可见，超纯水在半导体行业的必要性。
EDI超纯水系统生产的纯水和超纯水能保存多久？
EDI超纯水系统的生产速度远高于传统纯水生产设备。已成为各水务行业实验室制水设备之一。虽然不同EDI超纯水系统制备的超纯水水质不同，edi纯水设备，但水质基本相同。一般来说，实验室中的水纯度越高，储存时间越短，以18.2MΩ.cm的超纯水来说，放置时间越长，下降越严重。一般情况下，放置1小时后，超纯水的电阻率将降至4MΩ.cm，pH值将降至5.7左右。同时，由于环境的影响，水中的微生物会迅速繁殖。
因此，一般情况下，超纯水制取后不宜长期存放，应遵循“去用”的使用理念。
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