超纯水系统的四条维护要点
1、对于进水的预处理问题。
预处理中的砂滤器和碳滤器，在使用过一段时间后砂碳会积累一些泥沙、杂质胶体等较大的颗粒物，需要进行定期的反冲洗，从而提高过滤效果。
2、膜元件维护。
超纯水系统中的反渗透膜作为重要部件，edi超纯水设备厂家，需要细心维护。在设计系统时应该设置自动冲洗功能，用以冲走膜片表面的污物，***膜通量。
3、定期检查。
运行中我们要定期对系统进行检查，以免出现故障。例如检查和调整必要的零部件、压力阀门等，edi超纯水设备价格，还有查看压力仪表作好记录。
4、及时清洗。
定期擦拭设备内外表面的死角部位，清除表面污垢。并且超纯水系统停运时，应及时用清水冲净管道中的残液，否则残液变质后会影响再次启动后的正常运行以及产水。
超纯水设备出水符合芯片生产用水需求
超纯水设备出水符合芯片生产用水需求 在芯片生产中，几乎每一道工序都需要超纯水清洗，唐山edi超纯水设备，工件与水直接接触。一旦水质不达标或水中含有杂质，就会降低设备性能，降低产量。确保超纯水的质量是我国自主研发芯片的重要基础。传统的超纯水生产工艺采用阴离子树脂交换设备。这种工艺的缺点是树脂在使用一段时间后会频繁地再生，增加成本。随着膜分离技术的不断成熟，莱特莱德采用反渗透工艺，或反渗透后再采用EDI和抛光混床工艺生产超纯水，出水电导率可达18.2MΩ，满足芯片行业用水需求。随着芯片制造工艺中对设计的需求更小，对纯水水质的要求也越来越严格。莱特莱德芯片超纯水设备能在一定程度上去除水中的二氧化硅、颗粒、***、有机物和微生物，从而达到行业用水要求。
EDI超纯水系统进水水质指标控制措施如下： 1、控制进水电导率。控制预处理过程中的电导率，使EDI超纯水系统入口电导率小于40μS/cm，edi超纯水设备厂，确保出水电导率合格，去除弱电解液。 2、工作电压电流控制。系统在运行过程中应选择合适的工作电压电流。同时，EDI超纯水系统的电压-电流曲线上存在一个极限电压-电流点，它与进水水质、膜和树脂性能、膜结构等因素有关。为了电离一定量的水以产生足够的H+和OH-离子以再生一定量的离子交换树脂，所选EDI超纯水系统的电压-电流工作点必须大于极限电压-电流点。
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