EDI超纯水设备电阻率下降原因有哪些？
3、pH值变化
EDI系统进水CO2含量高。如果CO2含量大于10ppm，EDI系统就无法制备超纯度水。
4、铁污染
EDI系统运行中的铁污染是导致产水阻力逐渐下降的主要原因。如果原水和预处理系统中使用普通钢管，而不进行内部防腐处理，则系统中的铁含量会增加。铁被腐蚀后，以Fe(OH)2的形式溶解在水中，进一步氧化为Fe(OH)3。Fe(OH)2呈胶态，Fe(OH)3呈悬浮状态。树脂对铁有很强的亲和力，被树脂吸附后会发生不可逆反应。在处理阴阳离子交换水时，阴阳离子床将被再生或清洗，以去除树脂中的大部分铁。然而，EDI设备在运行中，没有再生和清洗，水中的微量铁会粘附在阴阳树脂和阴阳膜上。铁具有很强的导电性。在与阳离子树脂反应之前，它接近EDI组件中的负膜水平，并在强电流作用下迁移到正膜。纯铁离子容易穿透，而胶体铁化合物不容易穿透正极膜。它们吸附在阳膜表面，污染阴、阳膜，导致EDI组件的工作性能下降，出水水质变差，电阻值逐渐降低。
?EDI设备的优点：
在半导体生产中，超纯水主要用于清洗硅片。少量水用于配制药剂、硅片氧化的蒸汽源、某些设备的冷却水、电镀溶液的配制。集成电路产品的质量与产量密切相关。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，天津电子超纯水设备，***(Au、Ag、Cu等)会降低PN结的耐压力，III族元素 (B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化。***高温炭化水中的磷(约为灰分的20%~50%)会使p型硅片局部变为N型硅片，导致器件性能下降。水中的颗粒，包括***，如果附着在硅片表面，会导致短路或性能恶化。可见，超纯水在半导体行业的必要性。
EDI超纯水技术受欢迎的原因是什么？EDI超纯水技术，也称为连续电除盐技术，是两种成熟的水净化技术——电渗析和离子交换技术的结合。在低能耗的条件下去除溶解盐。运行中无需化学再生，电子超纯水设备厂，出水电阻率高于混床出水，可达10-18.2MΩ.CM，电子超纯水设备价格，达到***电子级水I级标准。EDI对一级反渗透出水电导率要求不高，进水电导率在4-30us∕cm都能够合格产水。可能需要添加软化装置，以去除水中的钙和镁离子。如果电导率高，只需调整工作电流和用量(氯化钠)，这是一项环保技术。EDI超纯水技术中的离子交换树脂不需要酸碱的化学再生，电子超纯水设备安装，节省了大量的酸、碱和清洗用水，大大降低了劳动强度。更重要的是，无废酸碱排放，属于非化学水处理系统。无需酸碱储存和处理，无废水排放。
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