粉末反射率测试仪-北京反射率测试仪-景颐光电质量可靠(查看)

反射率测试仪——广州景颐光电科技有限公司是专门做反射率检测仪的公司

硅片反射率检测仪

硅片又称晶圆片，是由硅锭加工而成的，通过专门的工艺可以在硅片上刻蚀出数以百万计的晶体管，被广泛应用于集成电路的制造。

硅属于半导体材料，油墨反射率测试仪，其自身的导电性并不是很好。然而，可以通过添加适当的掺杂剂来控制它的电阻率。制造半导体前，必须将硅转换为晶圆片。

加工硅片生成一个硅锭要花一周到一个月的时间，这取决于很多因素，包括大小、质量和终端用户要求，因此需要反射率检测仪来测试其是否达到标准。

景颐光电生产的反射率检测系统采用卤素灯光源或紫外全光谱光源，光源输出均匀稳定，操作简便，使用灵活，粉末反射率测试仪，还可定制工业在线自动检测方案。

欢迎咨询景颐光电了解更多反射率测试仪

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反射率检测仪主要技术参数：

1、测量范围：0~100

2、重复精度：0.3%

3、显示数据与反射光强度成正比

4、仪器的光普灵敏度近似等于Sc与Y的乘积

5、环境温度：20°±5°；相对湿度<85%

6、输入电源：220V±10% 50Hz

反射率检测仪注意事项：

1、为保证测量精度，测量环境温度应接近25°C。仪器应经常校准，允许偏差为±0.3，若大于0.3需要新校准。

2、为克服硅光电池的光照疲劳现象，在测试的间隙时间内应将探头放在黑色标准板上面。减少插头的拔插次数，硅片反射率测试仪，以免损坏插头，造成接触不良。

3、白色标准版应远离污染，否则会影响测量精度。如有污渍可用绘图橡皮除净。

4、试验的制备应严格依照相关的标准GB9271-88的规定进行。

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反射率检测仪

反射率检测仪是一套全波长显微球面光学元件光谱分析仪，能快速准确地测量各类球面/非球面器件的相对/反射率。适用于凸透镜、凹透镜、镜片等的镀膜反射率测量。还可进行有干涉条纹的单层膜厚或折射率测量。

仪器特点

物镜对焦于被测物微小区域（φ60μm）颜色测定 X Y色度图，北京反射率测试仪，x， y， L， a， b， 饱和度，主波长等 探测器，能在几秒内实现重现性高的测定无需进行背面防反射处理即可快速准确地测定表面反射率。

测定范围约φ60μm(使用10×对物镜时) 约φ30μm(使用20×对物镜时)设备重量约15kg（光源内置）设备尺寸300(W)×550(D)×570(H)mm使用环境水平且无振动的场所。

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