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广东省科学院半导体研究所

普通会员4
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企业等级:普通会员
经营模式:生产加工
所在地区:广东 广州
联系卖家:曾经理
手机号码:15018420573
公司官网:www.micronanolab.com
企业地址:广州市天河区长兴路363号
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企业概况

广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一,其前身是2010年10月在成立的广东半导体照明产业技术研究院。2015年6月经省政府批准,由原广东省科学院、广东省工业技术研究院(广州有色金属研究院)、广东省测试分析研究所(中国广州分析测试中心)、广东省石油化工研究院等研究院所整合重组新广......

ITO镀膜真空镀膜公司-上海真空镀膜公司-半导体材料(查看)

产品编号:1000000000024307393                    更新时间:2023-04-24
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广东省科学院半导体研究所

广东省科学院半导体研究所

  • 主营业务:深硅刻蚀,真空镀膜,磁控溅射,材料刻蚀,紫外光刻
  • 公司官网:www.micronanolab.com
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真空镀膜公司MEMS真空镀膜加工平台——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一,主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究,兼顾重大技术应用的基础研究,立足于广东省经济社会发展的实际需要,从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究,电极真空镀膜公司,以及行业应用技术开发。

CVD镀膜设备种类繁多,当前PECVD为主流技术,未来市占率有望进一步提升。CVD是指利用气态或蒸汽态的物质在气相或气固界面上发生反应生成固态沉积物的过程,是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术。化学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。这些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物,也可以是III-V、II-IV、IV-VI族中的二元或多元的元素间化合物,上海真空镀膜公司,而且它们的物理功能可以通过气相掺杂的淀积过程控制。CVD镀膜重复性和台阶覆盖性较好,可用于SiO2、Si3N4、PSG、BPSG、TEOS等介质薄膜,以及半导体、金属(W)、各类金属有机化合物薄膜沉积。CVD种类繁多,根据腔室压力、外部能量等不同,可大致分为 APCVD、LPCVD、SACVD、 PECVD、MOCVD等类别。CVD设备反应源容易获得、镀膜成分多样、设备相对简单、特别适用于在形状复杂的零件表面和内孔镀膜。

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热反射镀膜玻璃又称阳光控制镀膜玻璃,俗称镀膜玻璃,是指具有反射太阳能功能的镀膜玻璃。一般通过在玻璃表面镀上金属或金属氧化膜,可以反射大量的太阳辐射和光线。

热反射玻璃

热反射玻璃具有良好的遮光和隔热性能。近年来,热反射镀膜玻璃已广泛应用于宾馆、饭店、商业场所。随着节能问题的日益突出,热反射玻璃也被应用于住宅建筑。

热反射汽车玻璃

热反射镀膜玻璃能有效反射太阳红外光(20-25%),阻隔热量进入车内(隔热性能>30%),降低空调负荷,保持良好的透光率(70- 75%),功率器件真空镀膜公司,并保持清晰的视野。因此,热反射镀膜玻璃对溅射靶材的需求不断增加。



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而当工作气压过大时,沉积速率会减小,原因有如下两点:

(1)由于气体分子平均自由程减小,溅射原子的背反射和受气体分子散射的几率增大,而且这一影响已经超过了放电增强的影响。溅射原子经多次碰撞后会有部分逃离沉积区域,基片对溅射原子的收集效率就会减小,从而导致了沉积速率的降低。

(2) 随着Ar气分子的增多,溅射原子与Ar气分子的碰撞次数大量增加,这导致溅射原子能量在碰撞过程中大大损失,致使粒子到达基片的数量减少,沉积速率下降。

3.6结论

通过试验,及对结果的分析可以得出如下结论:在其他参数不变的条件下,随着工作气压的增大,沉积增大后减小。在某一个工作气压下,有一个对应的大沉积率。

虽然以上工作气压与沉积率的关系规律只是在纯铜靶材和陶瓷基片上得到的,但对其他不

同靶材与基片的镀膜工艺研究也具有一定的参考价值。




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