





从这一原理图中不难看出,真空电镀工艺过程是由膜材在蒸发源表面上的蒸发、蒸发后的粒子(主要是原子)在气相中的迁移、到达基片表面上通过吸附作用在基片表面上凝结生成薄膜等三个过程所组成。这种工艺过程创造一个良好成膜条件是十分必要的。pvd电镀
真空电镀工艺主要是通过加热器把膜材蒸发、蒸发的膜材原子或分子迁移吸附到基体表面的成膜工艺,因此根据膜材的种类不同大体可分为金属膜的真空电镀、合金膜的真空电镀及化合物的真空电镀这三大类。
当产品经PVD真空电镀时,将其置于夹具中并置于真空容器中。将装置抽真空至所需的真空压力。根据基材和使用的工艺,产品将被预热并进行溅射清洁。
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