半导体材料是在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电等领域进行应用的。半导体材料在应用中会需要一定量的超纯水，可用于清洗，该超纯水电阻率达到了18兆欧，不含导电介质和金属离子，可满足作为半导体清洗用水的需求。采用两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺，处理后的水质可达到18MΩ.CM以上，符合半导体用水标准。设备采用如今大热的膜技术，可有效去除水中的导电介质，以及水中不离解的胶体物质、气体及有机物，设备的出水纯度高，无病毒与***，不含任何悬浮物、无化学污染，电子纯水设备，产出的可谓是高品的超纯水了
EDI超纯水系统取水注意事项
由于EDI超纯水系统的生产速度和效率远远高于传统纯水生产标准，已成为实验室纯水制备的必备设备之一。不同的EDI超纯水系统可以生产的纯水超纯水质量也不同。
在取水时应注意以下几点：
1、EDI超纯水系统每7-10天冲洗一次，纯水设备，防止***滋生。
2、如果长时间不适用，必须将纯水机和水箱中的水全部排空。
3、EDI超纯水系统取水时，应先排出初始纯水和超纯水，待水质稳定后再取水。
4、不要将EDI超纯水系统和储水箱放置在阳光直射的地方，电子超纯水设备，以防***滋生。
EDI超纯水设备电阻率下降原因有哪些？
3、pH值变化
EDI系统进水CO2含量高。如果CO2含量大于10ppm，EDI系统就无法制备超纯度水。
4、铁污染
EDI系统运行中的铁污染是导致产水阻力逐渐下降的主要原因。如果原水和预处理系统中使用普通钢管，而不进行内部防腐处理，则系统中的铁含量会增加。铁被腐蚀后，以Fe(OH)2的形式溶解在水中，EDI纯水设备，进一步氧化为Fe(OH)3。Fe(OH)2呈胶态，Fe(OH)3呈悬浮状态。树脂对铁有很强的亲和力，被树脂吸附后会发生不可逆反应。在处理阴阳离子交换水时，阴阳离子床将被再生或清洗，以去除树脂中的大部分铁。然而，EDI设备在运行中，没有再生和清洗，水中的微量铁会粘附在阴阳树脂和阴阳膜上。铁具有很强的导电性。在与阳离子树脂反应之前，它接近EDI组件中的负膜水平，并在强电流作用下迁移到正膜。纯铁离子容易穿透，而胶体铁化合物不容易穿透正极膜。它们吸附在阳膜表面，污染阴、阳膜，导致EDI组件的工作性能下降，出水水质变差，电阻值逐渐降低。
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