在半导体生产中，超纯水主要用于清洗硅片。少量水用于配制药剂、硅片氧化的蒸汽源、某些设备的冷却水、电镀溶液的配制。集成电路产品的质量与产量密切相关。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，***(Au、Ag、Cu等)会降低PN结的耐压力，edi纯水设备厂家，III族元素 (B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化。***高温炭化水中的磷(约为灰分的20%~50%)会使p型硅片局部变为N型硅片，导致器件性能下降。水中的颗粒，包括***，如果附着在硅片表面，edi纯水设备，会导致短路或性能恶化。可见，超纯水在半导体行业的必要性。
EDI超纯水设备在选择时应该注意哪些问题？
超纯水，也称为UP水，是指电阻率为18 mΩ*cm(25℃)的水。除水分子外，这种水几乎不含杂质、***、病毒、氯化和其他有机物质。当然，也不含***所需的矿物质微量元素，也就是说，水几乎不含有除氧和氢以外的所有原子。它可用于使用蒸馏、去离子、反渗透技术或其他适当的临界精细技术制备超纯材料(半导体原材料、纳米精细陶瓷材料等)的过程。
EDI超纯水系统由几个模块组成，每小时产水量相同。EDI模块根据超纯水的实际使用情况启动或停止。手动操作相对频繁，但操作相对简单。只需打开EDI进水阀、极水阀、浓水阀，edi纯水设备报价，打开电源即可。同时，可根据出水水质调节投加量(氯化钠)、电解电压和电流大小即可。 EDI作为一种经济实用的环保型超纯水系统，与混床相比具有以下优点：再生***无需再生，运行成本低，不需要中和剂，水资源利用率高，edi纯水设备生产，地面和空中工作可以大大减少，全自动操作，降低EHS风险，连续运行，出水水质稳定。EDI超纯水系统是超纯水降低生产成本、提高生产效率、减少废水排放、降低生产区域风险的有效手段之一。
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