溅射镀膜
用高能粒子轰击固体外面时能使固体外面的粒子得到能量并逸出外面，PMMA光学镀膜生产商，堆积在基片上。溅射征象于1870年开始用于镀膜技巧，1930年今后因为进步了堆积速率而渐渐用于工业生产。罕用的二极溅射装备如图3[
二极溅射示意图]。平日将欲堆积的资料制成板材--靶，牢固在阴极上。基片置于正对靶面的阳极上，重庆PMMA光学镀膜，距靶几厘米。体系抽至高真空后充入
10～1帕的气体（平日为气），PMMA光学镀膜订制，在阴极和阳极间加几千伏电压，南北极间即发生辉光放电。
光学镀膜用于增强光学组件的透射、反射或偏振特性。例如，每个未镀膜玻璃器件表面将会有大约10%的入射光被反射。采用增透膜可将各表面的反射率降低到 0.1% 以下，采用高反射介电膜可将反射率提高到 99.99% 以上。光学镀膜由氧化物、金属或稀土材料等薄层材料组成。光学镀膜的性能取决于层数、厚度和不同层之间的折射率差异。
光学镀膜的特点是:表面光滑，膜层之间的界面是几何划分的，膜层在界面上的折射率可以发生跳跃，但在膜层是连续的，可以是透明介质，也可以是光学镀膜。其精度往往达到纳米甚至微纳米级别，因此，其制备复杂性不言而喻，有时小的失误会导致完全损失，为镀膜制备带来极大的困难。薄膜沉积的传统方法一直是热蒸发，或采用电阻加热蒸发源或采用电子束蒸发源。薄膜特性主要决定于沉积原子的能量，
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