氟化钍
名称：氟化钍（ThF4）
260-12000nm以上的光谱区域，是一种低折射率材料，在可视光谱区N从 1.52降到1.38（1000nm区域）在短波长趋近于1.6，蒸发温度比MGF2低一些，通常使用带有凹罩的舟皿以免THF4良性颗粒火星飞溅出去，南平收缩膜制造商，而且形成的薄膜似乎比MGF2薄膜更加坚固.该膜在IR光谱区300NM小水带几乎没有吸收，这意味着有望得到一个低的光谱移位以及更大的整体坚固性，pe收缩膜制造商，在8000到12000NM完全没有材料可以替代. 次数用完API KEY 超过次数限制
CeO2
使用高密度的钨舟皿（较早使用）蒸发，在200℃的基板上蒸着CeO2，得到一个约为2.2的折射率，在大约3000nm有一吸收带其折射率随基板温度的变化而发生显著变化，在300℃基板500nm区域折射率为2.45，在波长短过400nm时有吸收，传统方法蒸发缺乏紧密性，用氧离子助镀可取得n=2.35（500nm）的低吸收性薄膜，一般为颗粒状，还可用一增透膜和滤光片等。透光范围（nm) 折射率（N) 500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量
400--16000 2.35 约2000 电子 防反膜， 多 次数用完API KEY 超过次数限制
按薄膜的成型方法分类：有挤出塑化、然后吹塑成型的薄膜，称为吹塑薄膜；经挤出塑化，PVC收缩膜制造商，然后熔融料从模具口流延成型的薄膜，称为流延薄膜；在压延机上由几根辊筒辗压塑化原料制成的薄膜，称为压延薄膜。
三氧化二钇
名称：钇（Y）
三氧化二钇，（Y2O3）使用电子蒸镀，该材料性能随膜厚而变化，在500nm时折射率约为1.8，PE收缩膜制造商，用作铝保护膜极其受欢迎，特别相对于800-12000nm区域高入射角而言，可用作眼镜保护膜，且24小时暴露于湿气中，一般为颗粒状和片状。
透光范围（nm) 折射率（N) 500nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 蒸气成分
250--8000 1.79 2300--2500 电子 防反膜，铝保护膜 次数用完API KEY 超过次数限制
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