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一、满足生产工艺对建筑设计的要求，实现的制造空间与设施。

　　在对工业净化车间的建筑进行设计时，必须处理好洁净区域与其相关的辅助区的关系。

　　二、实现能够经济运行的设施，节约能源、易于维护、降低造价。

　　在对工业净化车间的建筑进行设计时，必须对用于生产工艺、净化空调以及公用动力设施的空间组成进行有效利用，做到面积省、减少能量消耗和防止污染或交叉污染等。

　　工业净化车间净化原理：混合空气-初效空气处理-中效空气处理-空调加热或制冷-加压风机送风-净化管道-送风口-洁净室-带走尘埃-回风夹道-新风、初效空气处理。车间按照以上的步骤重复多次，即可完成

空气由空调箱经风管与洁净室内之空气过滤器（HEPA） 进入洁净室，并由洁净室两侧隔间墙板或高架地板回风。气流非直线型运动而呈不规则之乱流或涡流状态。此型式适用于洁净室等级1，000-100，000级。

   优点：构造简单、系统建造成本低，洁净室的扩充比较容易，在某些特殊用途场所，净化工程报价，可并用无尘工作台，提高洁净室等级。

   缺点：乱流造成的微尘粒子于室内空间飘浮不易排出，净化工程，易污染制程产品。另外若系统停止运转再活，欲达需求之洁净度，往往须耗时相当长一段时间。

净化车间之作用在于控制产品(如硅芯片等)所接触的大气的洁净度以及温湿度，使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造，此空间我们称之为净化车间。按照国际惯例，净化工程公司，无尘净化级别主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也就是说所谓无尘并非100%没有一点灰尘，而是控制在一个非常微量的单位上。当然这个标准中符合灰尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微，但是对于光学构造而言，哪怕是一点点的灰尘都会产生非常大的影响，所以在光学构造产品的生产上，净化工程价格，净化车间无尘是必然的要求。

　　每立方米将小于0.3微米粒径的微尘数量控制在3500个以下，就达到了国际无尘标准级。目前应用在芯片级生产加工的无尘标准对于灰尘的要求高，这样的高标主要被应用在一些等级较高芯片生产上。5μm及以下的微尘数量被严格控制在每立方米1000个以内，这也就是业内俗称的1K级别。