为工业化生产提供实验室研究基础，本文以V2O5和纳米碳黑为原料，利用碳热还原法，在常压下碳管炉中得到了V8C7粉末。通过X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)，分析了原料对反应进程的影响。结果表明:采用普通球磨干混的方式时，比表面积(BET)为112m2/g的碳黑可以加速反应进程，过低或过高都不利于反应的进行;细粒径的V2O5原始粉末可明显加快反应进程，终得到大小均匀，碳化钒厂家，粒度1μm以下的球形碳化钒粉末。反应机理研究表明，固-固反应的速率与反应组元的颗粒大小和混合均匀程度，安徽碳化钒，以及不同反应组元之间的接触面积有很大关系。
在Ar、C2H2混合气氛中通过反应磁控溅射法制备了一系列不同
在Ar、C2H2混合气氛中通过反应磁控溅射法制备了一系列不同碳含量的碳化钒薄膜，利用EDX、XRD、SEM、AFM和微力学探针表征了薄膜的微结构和力学性能。研究了C2H2分压对薄膜成分、相组成、微结构以及硬度和弹性模量的影响。结果表明，采用在Ar-C2H2混合气体中的射频反应磁控溅射技术可以方便地合成碳化钒薄膜。但是，只有在C2H2分压为混合气体总压约4%附近很窄的范围内才可获得力学性能优异的碳化钒薄膜。其硬度和弹性模量分别达到35.5GPa和358GPa，粉钒，此时，薄膜为N***结构的VC，且具有柱状生长的特征。随着C2H2分压的提高，薄膜形成六方结构的-γVC，高纯钒，并逐渐产生非晶碳相，硬度和弹性模量随之降低。
为了提高碳化物靶溅射薄膜的结晶程度和相应的力学性能，采用等化学计量比的vc靶（n（c）：n（V）=1：1）和富V的VC靶（n（c）：n（v）=0．75：1）通过磁控溅射方法制备了一系列VC薄膜，利用EDS、XRD、SEM和微力学探针研究了靶成分、溅射气压和基片温度对薄膜化学成分、微结构和力学性能的影响．结果表明，对于等化学计量比的VC靶，在Ar气压为2．4-3．2Pa的范围内可获得结晶程度和硬度较高的VC薄膜，其硬度为28GPa．而采用富V的VC靶时，在较低的Ar气压（0．6-1．8Pa）下就可获得结晶程度高的VC薄膜，其硬度达到31．4GPa．可见，相对于溅射参数的Ar气压和基片温度，靶的成分对于所获薄膜的成分、微结构和力学性能影响更显著，因而适当提高靶中金属组分的含量是获得结晶良好且具高硬度的VC薄膜更为有效的途径．
粉钒-人本合金(在线咨询)-安徽碳化钒由芜湖人本合金有限责任公司提供。芜湖人本合金有限责任公司为客户提供“***,偏钒酸铵,偏钒酸钠,偏***,钼酸铵等系列化合物”等业务，公司拥有“人本合金”等品牌，专注于金属加工助剂等行业。，在安徽新芜经济开发区赵桥园区五星大道13号的名声不错。欢迎来电垂询，联系人：马经理。
