此方法适用于除去氧化膜或有机物。因为化学物质在硅片表面停留的时间比较短，对反应需要一定时间的清洗效果不好。在喷洗过程中所使用的化学***很少，金属零件喷淋清洗机安装，对控制成本及环境保护有利。
随着集成电路制程工艺节点越来越***，对实际制造的几个环节也提出了新要求，清洗环节的重要性日益凸显。
清洗的关键性则是由于随着特征尺寸的不断缩小，半导体对杂质含量越来越敏感，而半导体制造中不可避免会引入一些颗粒、有机物、金属和氧化物等污染物。为了减少杂质对芯片良率的影响，实际生产中不仅仅需要提高单次的清洗效率，还需要在几乎所有制程前后都频繁的进行清洗，清洗步骤约占整体步骤的33%。
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旋转喷淋清洗机简介
旋转喷淋清洗机
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一、 主要参数（一道清洗+一道风切）：
1、清洗节拍：180S以上；
2、清洗压力：0.4Mpa以上；
3、装机功率约：15KW；
4、占地尺寸约： 1200 L *1500W*1500H（mm）；
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