半导体材料是在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电等领域进行应用的。半导体材料在应用中会需要一定量的超纯水，可用于清洗，该超纯水电阻率达到了18兆欧，EDI纯水设备，不含导电介质和金属离子，可满足作为半导体清洗用水的需求。采用两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺，处理后的水质可达到18MΩ.CM以上，符合半导体用水标准。设备采用如今大热的膜技术，可有效去除水中的导电介质，以及水中不离解的胶体物质、气体及有机物，设备的出水纯度高，无病毒与***，不含任何悬浮物、无化学污染，产出的可谓是高品的超纯水了
EDI超纯水设备中的EDI其实是电去离子的英文简称，电子纯水设备，它是将电渗析和离子交换技术结合起来的一种深度脱盐技术。在电渗析的淡水室隔板中填充离子交换树脂，保留电渗析可连续脱盐及离子交换树脂深度脱盐的优点。同时又克服了电渗析浓差极化所造成的不良影响，运用技术将离子的电迁移技术结合形成的制备超纯水的技术，符合绿色环保理念，半导体纯水设备，既简化了处理工艺又避免了环境污染。
超纯水的水质直接关系到半导体成品率
在半导体生产中，超纯水可用于晶圆漂洗、化学稀释、化学机械研磨、洁净室环境的加湿源等。超纯水的质量直接关系到半导体的成品率，天津纯水设备，随着半导体元件尺寸的缩小和细度的提高，对超纯水质量的技术要求也在不断提高。
在超纯水生产过程中，只要微粒子、电阻率和TOC与气泡中的某一指标稍有差异，就会使半导体元件生产的合格率下降。
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