北京科创真空公司-氦质谱检漏仪公司-冷凝器氦质谱检漏仪公司

半导体设备及材料需要检漏原因

1、半导体设备要求高真空，比如磁控溅射台、电子束蒸发台、ICP、PECVD等设备。出现泄漏就会导致高真空达不到或需要大量的时间，耗时耗力；

2、在高真空环境洁净度高、水蒸气很少。一旦出现泄漏周围环境中的灰尘和悬浮颗粒或尘埃就会对晶元造成污染，对半导体的特性改变并***其性能，因此在半导体器件生产过程中必须进行氦质谱检漏；

3、一些半导体设备要用到***或有腐蚀性的特殊气体，经过氦质谱检漏后，在低漏率真空条件下，真空箱氦质谱检漏仪公司，这些气体不易外泄，空调蒸发器氦质谱检漏仪公司，设备能及时抽走未反应气体和气态反应产物，保障工作人员安全和大气环境。

4、芯片封装，一旦出现泄漏，芯片就会失效。

氦质谱检漏仪常用检漏仪检漏方法详解

喷氦法

在检测较大部件时要借助机械泵进行真空预抽，就可以提高检漏效率和时间，喷氦法在检查那些结构比较复杂的，氦质谱检漏仪公司，密封口和焊缝又比较多而且挤在一起的小容器时，由于氦喷出后会很快扩散开来，往往不容易准确地确定漏隙所在的部位，要采取从不同角度喷氦，仔细观察反应时间上的差别和将已发现的漏孔用真空封泥暂时封起来等办法，就可以把漏孔逐个检出。

用氦气作为氦质谱检漏气体的原因

选择示漏气体(示踪气体）的原则是：它在空气中及真空系统中的含量低；检漏仪对示漏气体的灵敏度高；它不会对人员、环境、被检件及检漏仪造成污染、伤害和安全隐患；价格低。

质谱检漏仪通常选择氦气作示踪气体，主要原因如下：

1、氦在空气中及真空系统残余气体中的含量极1少（在空气中约含5.2ppm），在材料出气中也很少，因此本底压力小，输出的本底电流也小。正因为本底小，由某些原因引起本底的波动，亦即本底噪声也就小，因此微小漏率也就能反应出来，灵敏度高。

2、氦的质量小（相对分子质量为4），易于穿过漏孔。这样，氦较除氢以外的其他气体通过同一漏孔的漏率就大，容易发现，灵敏度高。

3、氦是惰性气体，不与被检件器壁起化学反应，不会污染被检件，使用安全。

4、在氦两侧的是氢（质荷比为2）和双电荷原子碳（质荷比为6），质荷比都与氦相差较大。这样，它们在分析器中的偏转半径相差也大，容易分开，定标找氦峰时，不易受其他离子的干扰，因此就降低了对分析器制造精度的要求，易于加工。同时，分析器出口电极及离子源加速极的隙缝也可以加大，使更多的氦离子通过，提高了仪器灵敏度。

5、氦在被检件及真空系统中不易被吸附。这样检出一个漏孔可以使氦信号迅速消失以便继续进行检漏，提高了仪器的检漏效率。

6.氢气有些性能（如质量小、易通过漏孔）比氦还好，然而由于氢一方面有易1爆***，另一方面在油扩散泵中，由于油受热裂解会产生大量的碳和氢，半导体氦质谱检漏仪公司，使氢本底极高且波动大，以致灵敏度大大降低，所以很少采用。

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