光学真空镀膜成品-仁睿电子(在线咨询)-吉林光学真空镀膜

基于丰富的经验和软件，Beneq可根据您的要求针对性地设计ALD膜层结构，以此获得的光学性能。与PVD不同，ALD技术无需旋转基底材料。这意味着用更简单的方法就能达到更大的产量。Beneq P400A实现了高均匀度、批量生产和高沉积率的的优化组合。硅结构测试在硅结构测试中沉积保形的ALD薄膜堆层光学真空镀膜光学真空镀膜光学真空镀膜


常见的光学镀膜材料有以下几种：二氧化硅材料特点：无色透明晶体，熔点高，硬度大，化学稳定性好。纯度高，光学真空镀膜供应商，用其制备高质量Si02镀膜，蒸发状态好，不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。光学薄膜在高真空度的镀膜腔中实现。常规镀膜工艺要求升高基底温度(通常约为300℃)；而较***的技术，如离子辅助沉积(IAD)可在室温下进行。

金属(合金)类:锗、铬、铝、银、金等.

①锗

稀有金属，***无性，吉林光学真空镀膜，主要用于半导体工业塑料工业，红外光学器件，光学真空镀膜公司，航天工业，光纤通讯等.透光范围2000NM--- 14000NM，n=4甚至更大.

铬

有时用在分光镜上并且通常用作"胶质层"来增强附着力，胶质层可能在550NM的范围内，但在铝镜膜导下面，30NM是增强附着力的有效值.

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