作为一种新型的超纯水设备，edi超纯水设备厂家，EDI超纯水设备已经逐渐被广大客户所接受，edi超纯水设备价格，并获得了良好的评价。EDI超纯水设备可以不需要酸碱再生就轻松获得超纯水，因为它在纯水提取过程中不会产生大量的废水，不会造成环境污染。EDI超纯水设备改善了传统工艺阶段供水的缺点，实现了超纯水的大量连续供应。
超纯水设备在设计上采用成熟、可靠、自动化程度高的两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺，唐山edi超纯水设备，确保处理后出水电阻率达到18MΩ.CM以上。设备内部还安装有反渗透预脱盐技术，再次从根本上行保障了设备的出水水质
EDI超纯水系统进水水质指标控制措施如下：
EDI超纯水系统进水水质指标控制措施如下：进水CO2的控制。反渗透前可通过加碱调节pH值，尽可能多地去除CO2，也可通过脱气塔和脱气膜去除CO2。进水硬度控制。结合CO2去除，RO进水可以软化和加碱。当进水含盐量较高时，edi纯水设备，可加入一级反渗透或纳滤结合脱盐。 TOC控制。结合其他指标要求，增加RO级别以满足要求。浊度和污染指数的控制。浊度和污染指数是RO系统进水控制的主要指标之一。合格的RO出水一般都能满足EDI超纯水系统进水要求。
超纯水设备出水符合芯片生产用水需求 在芯片生产中，几乎每一道工序都需要超纯水清洗，工件与水直接接触。一旦水质不达标或水中含有杂质，就会降低设备性能，降低产量。确保超纯水的质量是我国自主研发芯片的重要基础。传统的超纯水生产工艺采用阴离子树脂交换设备。这种工艺的缺点是树脂在使用一段时间后会频繁地再生，增加成本。随着膜分离技术的不断成熟，莱特莱德采用反渗透工艺，或反渗透后再采用EDI和抛光混床工艺生产超纯水，出水电导率可达18.2MΩ，满足芯片行业用水需求。随着芯片制造工艺中对设计的需求更小，对纯水水质的要求也越来越严格。莱特莱德芯片超纯水设备能在一定程度上去除水中的二氧化硅、颗粒、***、有机物和微生物，从而达到行业用水要求。
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