硅片除气装置公司-北京硅片除气装置-科创真空公司

真空除气储存柜的加热系统

1、加热区尺寸：定制

2、加热功率：30-80 KW（实际功率可调）

3、加热元件：钼片

4、隔热组件：钼+不锈钢

5、温度测量：S型热电偶

6、控温精度：±1℃

7、升温速率 ：由室温升至1000℃小于80min（空载）

8、加热室：采用圆筒形加热室结构。隔热屏采用多层钼结构，各层之间采用99刚玉陶瓷，硅片除气装置哪家好，发热体为钼片，钼片均匀环绕在隔热屏周围，实现良好的温度均匀性。具有使用寿命长、隔热保温性能好、真空放气量较少。外框使用不锈钢（310S）板材料，并且焊接多道加强筋以保证不变形。

9、加热控制：采用PID智能控温模块设计，可编辑30+段升温曲线，存贮20+组工艺配方，组合PLC等实现超压、超温、过流等自动报警保护功能，10寸液晶触摸屏显示操作，具有操作方便，硅片除气装置品牌，功能强大，稳定性好等特点。

真空除气存储柜工艺流程

真空除气存储柜、真空除气炉的控制操作可以选择手动与自动两种模式。

该设备有两种工艺流程：常温保压工艺与加热除气工艺。用户可根据实际情况需要，在设备上设定需要的执行功能与详细的目标参数。当用户设定参数之后，硅片除气装置厂家，系统即按照用户的设定参数默认执行。

设备具有很高的智能化，当用户设定的参数目标值存在错误或逻辑冲突时，系统会及时提醒并不能按照错误的数据启动运行设备。并可以提供20+组不同的参数组，供客户选择和修改。并且具备工艺记忆功能，方便客户的使用。

真空除气炉、真空存储柜的使用环境

使用环境

①　设备占地面积约：长2米，宽1.6米（约3.2平米）高1.95米；

②　电源：380 V±38 V，北京硅片除气装置，50 Hz±0.5 Hz，约15KW（外部电源用户自备）；

③　工件要求：无油污，无腐蚀性物质；

④　环境温度：   5 ℃ ～ 35 ℃；

⑤　相对湿度：  20%-85%；

⑥　设备应安装在通风良好的厂房内。