退火炉是在半导体器件制造中使用的一种工艺，其包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。热处理是针对不同的效果而设计的。可以加热晶片以掺杂剂，将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面，使致密沉积的薄膜，改变生长的薄膜的状态，修复注入的损伤，移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶圆衬底。退火炉可以集成到其他炉子处理步骤中，例如氧化，或者可以自己处理。退火炉是由专门为加热半导体晶片而设计的设备完成的。退火炉是节能型周期式作业炉，超节能结构，采用纤维结构，节电60%。
2.人们必须有一定的掌握的是，试品的排序一定不可以太密不可分。在热管散热板上不可以放置试品，由于那样会在挺大水平上危害热气旋的往动性。此外，性、或是是容易挥发的物件是不可以在隧道炉开展有关的加温烤制的。
3.假如人们必须观查隧道炉中的试品状况，一般是能够打开外道箱门，随后再通过玻璃移门开展观查。但箱门以尽量避免开为好，以防危害控温的实际效果的利润化。
4.终都是十分关键的一点，人们一定要留意用电量的安全性，在应用以前，人们一定要确保烘箱耗电量输出功率。此外，在应用时，温度干万不可以超出其应用温度。
若想了解更多关于隧道炉的知识，
1、烘干区体外表面温度过高
区体保温材料选用不当是造成隔热效果较差、表面温度超标和保温性达不到要求的主要原因。这不仅造成能耗增加，也不符合GB1444321993《涂装作业安全规程涂层烘干室安全技术规定》第5.9.2条要求：烘干区应有良好的保温，外壁表面温度不应高于室温15℃。
2、废气排放管道设置不当或没有设置
有的烘干流水线、隧道炉等烘干线的废气排放管口没有接到室外，而在车间内，废气直接排入车间里，造成车间内空气污染;有的烘干流水线、隧道炉等烘干线的废气排放口没有设置在废气浓度的部位，不利于废气快速排出，防止积聚，也不符合***