卷绕真空镀膜机结构设计应该注意的几个问题
真空镀膜机使用的行业不一样，它的机型是不一样的，那么它的结构设计也是有很大的差别。在设计真空镀膜机的时，我们都是要考虑到很多因素，比如：要镀的物件大小，使用的材质，以及它的热点，和其他的一些细节注意事项等，都会影响真空镀膜机的结构设计，那么卷绕真空镀膜机结构设计应该注意那几个问题呢？下面至成真空小编，为大家详细介绍一下：
1、提高卷绕速度的问题。卷绕速度即是带状基材运动的线速度，它是卷绕机构的一个主要技术指栎。国内早期镀膜机卷绕速度只有10m/min，现在也只有80m/min～120m/min，在国外日本的EW系列产品中，其卷绕速度已达到300m/min，德国L．H公司生产的镀膜机已达到600m/min，可见随着镀膜技术的发展，卷绕速度有待提高。
2、带状基材的线速恒定问题。这一问题也很重要，因为只有卷绕机构保证带状基材的线速恒定，才能使基材上镀层厚度均匀。这一点对制备带状基材的功能性膜（如电容器膜）尤为重要。
3、带状基材的跑偏和起褶问题。随着卷绕速度的提高，带状基材在卷绕镀膜过程中，起褶和发生偏斜，严重时会造成基材的断裂，使生产中断，既影响生产效率，又浪费材料。因此，在卷绕机构的设计中应充分考虑这一问题。
卷绕镀膜机真空抽气系统分上室下室两组，下室为蒸镀室，要求真空度高，主泵多为油扩散泵。上室为基材卷绕室，要求真空度较低，为罗茨泵机组或扩散泵一罗茨泵一机械泵组。一般蒸镀室要达到的真空度为1x10^-3Pa—2×10^-3Pa，而工作压力为1×10^-2Pa—2×10^-2Pa，而卷绕室真空度通常较蒸镀室低一个数量级。有时卷绕镀膜机以增扩泵（油扩散泵的一种）为主泵，它的极限压力虽然不及油扩散泵，但其抽速范围向高压方向延伸一个数量级，非常适宜此类蒸发的镀膜过程。
真空PVD镀膜涂层工艺冷却如何进行？
1.高阀关闭，真空计关闭，真空室与泵组隔离；
2.当操作人员按下N2vent按钮，预先接好的氮气会通过N2充气阀充入真空室，当真空室内的压力达到压力开关预设的压力时，N2充气阀关闭。
3.真空室内充入了大量N2，真空度很低，更加有利于热传导，所以降温速度比不充冷却N2时快很多，缩短冷却时间，提高生产效率，实际冷却时间可由原来的90分钟缩短为60分钟。
4.由于氦气的热传导率更高，所以充入冷却氦气比氮气降温速度更快，但是成本也更高。
5.国外设备快速冷却程序，通过冷却气体的循环冷却，能缩短冷却时间50%。
为什么要进行压升率测试？
真空环境条件是影响***终涂层质量重要的因素。镀膜前，必须进行压升率测试，以保证真空环境条件满足镀膜标准。
怎样进行压升率测试？
在我们的自动镀膜工艺中，压升率测试是自动进行。当真空室内真空度达到工艺设定的本底真空后，进入压升率测试步骤。
系统会自动关闭高阀，此时真空室与泵组隔离，真空室内压力会升高。在一定时间内（一般1分钟），如果压力不超过设定的报警值，系统会自动进行下一步程序，进入镀膜步骤。如果压力超过设定的报警值，系统会有报警提示，此时，操作人员应按照操作流程，再次进行抽真空和加热烘烤，然后重复进行压升率测试，直至压升率满足镀膜条件。
多功能真空镀膜机是怎么构成的？
多功能真空镀膜机是磁控溅射、多弧离子、蒸发镀膜的混合性设备，是在多弧离子镀膜机的基础上装备圆柱靶或平面磁控靶，设备具有离子镀的高离化率、高堆积速度的特色，一起也具有磁控溅射低温、安稳的长处，合适镀各种复合膜。
多功能真空镀膜机--磁控、中频、多弧离子镀膜具体介绍：
①蒸腾与磁控溅射的混合设备:多功能，合适量产，适应性强。
②磁控溅射与多弧离子镀的混合运用:多弧能够进步炮击清洗质量，添加薄膜与基材结合力。与磁控溅射一起作业可镀制复合膜（高能离子源清洗活化，成膜速度快）。
③多对中频磁控溅射靶与柱弧离子镀的混合运用:中频靶更安稳（如Al），离化率高、堆积速率快、成膜均匀。中频反应溅射如镀制Si02、TiO2，一起镀多层不一样原料簿膜。
④射频、直流、中频、柱弧的混合运用：射频能够直接镀制绝缘保护膜如SiO2/Ag/SiO2
⑤圆柱弧、中频、多弧的混合运用:柱弧确保高离化率的一起，削减大颗粒堆积的份额，到达有好的结合力又有较好表面光洁度的作用。多功能真空镀膜机适用中高层次商品如表带、表壳、眼镜框、手机壳、高尔夫球具、卫浴洁具、饰品等。
