9,去胶:湿法去胶,用溶剂、用NONG***。负胶,98%H2SO4 H2O2 胶=CO CO2 H2O,正胶:BIN酮,干法去胶(ash)氧气加热去胶O2 胶=CO CO2 H2O,光刻胶 时效快,等离子去胶Oxygenpla***a ashing,高频电场O2---电离O- O , O 活性基与胶反应CO2,CO, H2O, 光刻检验
光刻胶
按感光树脂的化学结构,光刻胶可分为光聚合型光刻胶、光分解型光刻胶和光交联型光刻胶。在应用中,采用不同单体可以形成正、负图案,并可在光刻过程中改变材料溶解性、抗蚀性等。
光聚合型光刻胶
烯类,光刻胶 正胶,在光作用下生成自由基,自由基再进一步引发单体聚合。
光分解型光刻胶
叠氮醌类化合物,经光照后,会发生光分解反应,光刻胶 去胶,由油溶性变为水溶性。
光交联型光刻胶
聚乙烯醇月桂酸酯,在光的作用下,光刻胶,分子中的双键打开,链与链之间发生交联,形成一种不溶性的网状结构从而起到抗蚀作用。
按***波长,光刻胶可分为紫外(300~450 nm)光刻胶、深紫外(160~280 nm)光刻胶、极紫外(EUV,13.5 nm)光刻胶、电子束光刻胶、离子束光刻胶、X 射线光刻胶等。
按应用领域,光刻胶可分为PCB 光刻胶、LCD 光刻胶、半导体光刻胶等。PCB 光刻胶技术壁垒相对其他两类较低,而半导体光刻胶代表着光刻胶技术的水平。







光刻胶介绍
光刻胶是一种对光线、温度、湿度十分敏感的材料,可以在光照后发生化学性质的改变,这是整个工艺的基础。
光刻胶有不同的类型,PMMA(PMGI)以及DNQ(酚醛树脂)等材料都可以做光刻胶。
目前光刻胶市场上的参与者多是来自于美国、日本、韩国等***,包括 FUTURREX、陶氏化学、杜邦、富士胶片、信越化学、住友化学、LG化学等等,中国公司在光刻胶领域也缺少核心技术。
光刻胶 正胶-光刻胶-赛米莱德(查看)由 北京赛米莱德贸易有限公司提供。 北京赛米莱德贸易有限公司()为客户提供“光刻胶”等业务,公司拥有“赛米莱德”等品牌。专注于工业制品等行业,在北京 大兴区 有较高知名度。欢迎来电垂询,联系人:况经理。