





磁控溅射
(1)各种功能性薄膜:如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如,低温沉积氮化硅减反射膜,以提高太阳能电池的光电转换效率。
(2)装饰领域的应用,如各种全反射膜及半透明膜等,如手机外壳,鼠标等。
(3) 在微电子领域作为一种非热式镀膜技术,主要应用在化学气相沉积(CVD)或金属有机
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磁控溅射
磁控溅射是物理的气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,而上世纪 70 年***展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射,必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。
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我国真空镀膜机行业发展现状和前景分析
随着工业技术的不断发展,对材料的综合性能要求也不断提高,单一材料性能已不能满足某些特定环境下工作机械的性能要求。国内真空离子镀膜机经过几十年的发展,磁控溅射,相对于国外高1端镀膜设备而言,在自动化程度与技术上取得了一定的进步,但在镀膜产品稳定性和准确性方面尚需提升,高1端设备仍依赖进口。同时多弧离子镀膜机低端产品市场存在供大于求的情况,价格竞争较为激烈。
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