鑫和丰-武昌特种气体

三氟化氮在常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体，是一种强氧化剂。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体，在离子蚀刻时裂解为活性氟离子，这些氟离子对硅和钨化合物，高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性（对氧化硅和硅），它在蚀刻时，在蚀刻物表面不留任何残留物，是非常良好的清洗剂，同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的运用。

随着我国半导体、制芯业的发展，高纯气体管道的应用也越来越广泛，象半导体、电子、医l药、食品等行业都不同程度的使用了高纯气体管道，因此高纯气体管道的施工对于我们来说也越来越重要。

在真空离子镀膜中，在真空条件下使高纯气体（氧、氮、***、***）放电实现镀膜。即金属在特定条件下，与高纯气体综合作用形成离子体。在高速作用下，撞击加工工件表面。离子体牢牢粘附在加工工件的表面形成膜层。

在真空离子镀膜中，所选用不同气体所生产出来的产品色泽也会不一样。***气一般用作创造镀膜的环境。镀钛和铬时，充入氮气可生产出银色和***的产品。而想要生产出黑色或***的产品，则需要加入***气体。加入氧气则生产蓝色的产品。除了气体外，所生产出的产品颜色还受压力、温度、时间等条件影响。

三氟化氮主要用途是用作氟化l氢－氟化气高能化学激光器的氟源，在h2-O2 与F2之间反应能的有效部分（约25%）可以以激光辐射释放出，所 HF-OF激光器是化学激光器中***有希望的激光器。三氟化氮是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅蚀刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与氧气的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成电路材料的蚀刻中，特种气体，三氟化氮具有非常优异的蚀刻速率和选择性，在被蚀刻物表面不留任何残留物，同时也是非常良好的清洗剂。随着纳米技术的发展和电子工业大规模的发展技术，它的需求量将日益增加。