PVD真空镀膜机镀膜工艺原理
PVD即物***相沉积，分为：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜和真空溅射镀；通常说的NCVM镀膜，就是指真空蒸发镀膜。PVD真空镀膜机镀膜工艺原理分为以下三种情况：
（1）真空蒸镀基本原理：在真空条件下，使金属、金属合金等蒸发，然后沉积在基体表面上，蒸发的方法常用电阻加热，电子束轰击镀料，使蒸发成气相，然后沉积在基体表面，真空蒸镀是PVD法中使用早的技术。
（2）溅射镀膜基本原理：充Ar（Ar）气的真空条件下，使Ar气进行辉光放电，这时Ar（Ar）原子电离成Ar离子（Ar），Ar离子在电场力的作用下，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。溅射镀膜中的入射离子，一般采用辉光放电获得，在l0-2Pa～10Pa范围，所以溅射出来的粒子在飞向基体过程中，易和真空室中的气体分子发生碰撞，使运动方向随机，沉积的膜易于均匀。
（3）离子镀基本原理：在真空条件下，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子，同时产生许多高能量的中性原子，在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下，离子沉积于基体表面形成薄膜。
光学真空镀膜机镀膜技术和装备
光学真空镀膜机给人感觉，遥不可及，但是现如今光学镀膜机在市场上使用非常广泛了，也得到了很多厂商的认可和喜爱。今天至成小编为大家讲解一下关于光学镀膜相关的知识。光学薄膜是现代光学和光电系统重要的组成部分，在光通信、光学显示、激光加工、激光核聚变等高科技及产业领域已经成为核心元器件，其技术突破常常成为现代光学及光电系统加速发展的主因。光学薄膜的技术性能和可靠性，直接影响到应用系统的性能、可靠性及成本。随着行业的不断发展，精密光学系统对光学薄膜的光谱控制能力和精度要求越来越高，而消费电子对光学薄膜器件的需求更强调超大的量产规模和普通大众的易用和舒适性。
精密光学真空镀膜设备在***的时候有哪些***方面的措施，下面的内容中我们就来了解。
一、定期更换扩散泵油：真空镀膜机扩散泵油使用一段时间，约二个月两班：，因在长期高温环境，虽然较高真空时才启动扩散泵，但仍残留氧气及其它成份使之与扩散泵油起反应，扩散泵油在高温下也可能产生裂解，使其品质下降，而延长抽气时间。在我们认为时间延长得太多时，应予更换。
二、真空泵：真空镀膜机机械泵油、维持泵油在使用二个月，油质会发生变化。因油可能抽入水分、杂质及其它原因，而使用油粘性变差，真空下降，故需要更换。如为新设备，在使用头半个月即应更换，因在磨合期，油含磨合铁粉较多，会加剧磨损。
三、清洁卫生：定期将真空镀膜设备及其周围环境卫生搞好，常保持设备内外清洁，将真空镀膜设备周围环境整理有条，有一个好的工作环境，以保安全。
东莞市至成真空科技有限公司***从事各种真空镀膜设备制造，致力于研发和生产真空镀膜机，为行业客户提供定制化的工艺解决方案和镀膜设备。
