真空镀膜机工作的特点
真空镀膜机工作的特点是溅射率高、基片温升低、膜-基结合力好、装置性能稳定中频设备必须加冷却水进行冷却，原因是它的频率高电流大。电流在导体流动时有一个集肤效应，电荷会聚集在电导有表面积，这样会使电导发热，所以采用中孔管做导体中间加水冷却。
冷水机能控制真空镀膜机的温度，以保证镀件的高质量。如果不配置冷水机就不能使真空镀膜机达到高精度、***率控制温度的目的，因为自然水和水塔散热都不可避免地受到自然气温的影响，而且此方式控制是极不稳定的。
常用的光学镀膜有哪些？
二，光学薄膜
减反射膜是应用***广、产量大的一种光学薄膜，因此，它至今仍是光学薄膜技术中重要的研究课题，研究的***是寻找新材料，设计新膜系,改进淀积工艺,使之用***少的层数，简单、***稳定的工艺，获得尽可能高的成品率，达到理想的效果。对激光薄膜来说，减反射膜是激光损伤的薄弱环节，如何提高它的***强度，也是人们***关心的问题之一。
反射膜
它的功能是增加光学表面的反射率。反射膜一般可分为两大类，一类是金属反射膜，一类是全电介质反射膜。此外，还有把两者结合起来的金属电介质反射膜。
一般金属都具有较大的消光系数，当光束由空气入射到金属表面时，进入金属内部的光振幅迅速衰减，使得进入金属内部的光能相应减少，而反射光能增加。消光系数越大，光振幅衰减越迅速，进入金属内部的光能越少，反射率越高。人们总是选择消光系数较大，光学性质较稳定的那些金属作为金属膜材料。在紫外区常用的金属薄膜材料是铝，在可见光区常用铝和银，在红外区常用金、银和铜，此外，铬和铂也常用作一些特种薄膜的膜料。由于铝、银、铜等材料在空气中很容易氧化而降低性能，所以必须用电介质膜加以保护。常用的保护膜材料有一氧化硅、氟化镁、二氧化硅、三氧化二铝等。金属反射膜的优点是制备工艺简单，工作的波长范围宽；缺点是光损耗大，反射率不可能很高。为了使金属反射膜的反射率进一步提高，可以在膜的外侧加镀几层一定厚度的电介质层，组成金属电介质反射膜。需要指出的是，金属电介质反射膜增加了某一波长（或者某一波区）的反射率，却***了金属膜中性反射的特点。
真空镀膜机真空的清洗方法,你知道吗?
真空镀膜机真空清洗一般定义为在真空工艺进行前，先从工件或系统材料表面清除所不期望的物质的过程。真空零部件的表面清洗处理是很必要的，因为由污染物所造成的气体、蒸气源会使真空系统不能获得所要求的真空度。此外，由于污染物的存在，还会影响真空部件连接处的强度和密封性能。
一．真空加热清洗
将工件放置于常压或真空中加热．促使其表面上的挥发杂质蒸发来达到清洗的目的，这种方法的清洗效果与工件的环境压力、在真空中保留时间的长短、加热温度、污染物的类型及工件材料有关。其原理是加热工件．促使其表面吸附的水分子和各种碳氢化合物分子的解吸作用增强。解吸增强的程度与温度有关。在超高真空下，为了得到原子级清洁表面，加热温度必高于450度才行．加热清洗方法特别有效。但有时，这种处理方法也会产生***。由于加热的结果，可能发生某些碳氢化合物聚合成较大的团粒，并同时分解成碳渣
二．紫外线辐照清洗
利用紫外辐照来分解表面上的碳氢化合物。例如，在空气中照射15h就可产生清洁的玻璃表面。如果把适当预清洗的表面放在一个产生臭氧的紫外线源中．要不了几分钟就可以形成清洁表面（工艺清洁)。这表明臭氧的存在增加了清洁速率。其清洗机理是：在紫外线照射下，污物分子受激并离解，而臭氧的生成和存在产生高活性的原子态氧。受激的污物分子和由污物离解产生的自由基与原子态氧作用．形成较简单易挥发分子．如H203、CO2和N2．其反应速率随温度的增加而增加．
