大样片离子束刻蚀机价格-创世威纳-大样片离子束刻蚀机

离子束刻蚀机

离子束刻蚀是利用离子束直接轰击工件，将工件上的材料溅射出来，实现材料去除的目的。离子束刻蚀是纯物理刻蚀过程，在各种常规刻蚀方法中具有分辨率较高、陡直性较好的特点。应用于在基板表面抛光或材料的去除，大样片离子束刻蚀机价格，尤其适用于金属材料薄膜的刻蚀，如Cu、Au、Pt、Ti、Ni、niCr等。

想了解更多产品信息您可拨打图片上的电话进行咨询！

离子束刻蚀机

离子束刻蚀是通过物理溅射功能进行加工的离子铣。国内应用***广泛的双栅考夫曼刻蚀机通常由屏栅和加速栅组成离子光学系统，其工作台可以方便地调整倾角，大样片离子束刻蚀机，使碲镉gong基片法线与离子束的入射方向成θ角，并绕自身的法线旋转，如图1所示。评价沟槽轮廓主要的参数有沟槽的开口宽度We、沟槽的刻蚀深度H、台面的坡度角φ和沟槽底部的宽度Wb。我们常用的深宽比（Aspectratio）是指槽深H和槽开口宽度We的比值，本文中用R表示。深宽比是常用来作为衡量刻蚀工艺水平和刻蚀图形好坏的评价参数。

刻蚀过程

普通的刻蚀过程大致如下：先在表面涂敷一层光致抗蚀剂，大样片离子束刻蚀机多少钱，然后透过掩模对抗蚀剂层进行选择性***，由于抗蚀剂层的已***部分和未***部分在显影液中溶解速度不同，经过显影后在衬底表面留下了抗蚀剂图形，大样片离子束刻蚀机报价，以此为掩模就可对衬底表面进行选择性腐蚀。如果衬底表面存在介质或金属层，则选择腐蚀以后，图形就转移到介质或金属层上。

以上就是关于刻蚀过程的相关内容介绍，如有需求，欢迎拨打图片上的***电话！