因此现在市面上有多功能离子真空镀膜机的出现，通过大量试验及工业化应用，本项目得出以下结论：
（1）所设计的多种镀膜技术复合的多功能离子镀膜机是成功的。
（2）该设备可大面积低成本制备表面光洁致密、平滑细腻，性能优异的类金刚石膜及金属氮（或碳）化物多元多层膜。
（3）采用特殊的多层梯度中间过渡层及掺杂技术，降低了内应力，提高了膜/基结合力，有利于膜层生长（***厚达6mm）。
（4）所制备DLC膜具有优异的综合性能：硬度gt;20GPa（高达37.25GPa），厚度可调（***厚达6mm），膜/基结合力gt;50N（高达100N），摩擦系数lt;0.2，膜层光洁细腻。
（5）所开发出的基体/Cr/CrN/CrTiAlN/CrTiAlCN/CrTiC/DLC多元多层耐磨耐热自润滑涂层具有良好的综合性能：硬度高达28.7GPa，厚度1-4mm可调，膜/基结合力大于70N，摩擦系数小于0.2。
（6）所研制的耐磨减摩膜已成功应用于多种高精密工模具以及精密关键部件上。应用结果表明：膜层的表面强化效果显著，可大幅度提高产品质量及使用寿命。
光学镀膜机电子枪打火问题是怎么引起的,该如何减少次数呢?
很多人对光学镀膜机电子枪打火问题很疑惑，不知道是什么原因产生的，也不知道该如何减少这种情况的发生，今天至成真空小编为大家讲解一下光学镀膜机电子枪打火问题是怎么引起的？
电子枪在蒸镀时，由于电子束中的电子与气体分子和蒸发材料的蒸汽发生碰撞产生的离子轰击带负电高压电极及其引线，即产生打火。另外，若这些带负高压电的部分有尘粒等杂物，会使该处电场集中了容易打火。故电子束蒸镀设备的高压电源都附有高压自动灭弧复位装置，在打火非常严重时才会自动切断高压，然后又自动***，切断与***的时间愈短，愈不会影响蒸镀工艺。
那么，在安装和使用的过程中，该如何才能减少打火次数。首先、高压引线应尽量短，并用接地良好的不锈钢板屏蔽住，不要追求美观把引线弯来弯去。然后，枪头金属件和引线定期用细砂纸打光，然后清洗干净。上螺钉的螺孔定期用丝锥攻螺孔，以便螺钉上下方便并保证压的很紧。接着，所有陶瓷件污染后应予更换。电子枪体应可靠接地。对放气量大的材料应充分预热以彻底除气。蒸镀时功率要合适，不可过高造成材料飞溅。高压馈线与高压绝缘子金属件的接线一定要可靠并经常检查，以免增大接触电阻造成发热而烧坏。蒸发档板应高于蒸发源70mm.1
PVD真空镀膜机镀膜技术工艺步骤及原理
厂家在采购PVD真空镀膜机时，商家都会培训PVD真空镀膜机的相关知识，如镀膜技术工艺步骤、原理、***维护方法，机器的运行注意事项等等，今天至成小编为大家介绍一下PVD真空镀膜机镀膜技术工艺步骤和原理。
PVD真空镀膜机镀膜技术工艺步骤，分为以下四个步骤：
（1）清洗工件：接通直流电源，Ar气进行辉光放电为Ar离子，Ar离子轰击工件表面，工件表层粒子和脏物被轰溅抛出；
（2）镀料的气化：即通入交流电后，使镀料蒸发气化。
（3）镀料离子的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞以及高压电场后，高速冲向工件；
（4）镀料原子、分子或离子在基体上沉积：工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。
如果是镀离子镀时，蒸发料粒子电离后具有三千到五千电子伏特的动能，高速轰击工件时，不但沉积速度快，而且能够穿透工件表面，形成一种注入基体很深的扩散层，离子镀的界面扩散深度可达四至五微米，也就是说比普通真空镀膜的扩散深度要深几十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特别牢。
