离子束刻蚀
离子束刻蚀技术是近年来发展起来的一种微细加工技术，它利用反应离子束轰击团体表面时发生的溅射效应和化学反应剥离加工工作上的几何图形。具有极高的分辨率，能够控制槽深和槽壁角度，表面应力小。反应离子束刻蚀技术已有效地用于研究和制造大规模和超大规模集成电路，声表面波器件，磁泡存储器，微波器件，集成光路，超导器件，大样片离子束刻蚀机，闪烁光栅等。
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离子束刻蚀是从工件上去除材料，是一个撞击溅射过程。
当离子束轰击工件，入射离子与靶原子碰撞时将动能传递给靶原子，大样片离子束刻蚀机多少钱，使其获得的能量超过原，子的结合能，导致靶原子发生溅射，从工件表，面溅射出来，以达到刻蚀的目的。
刻蚀加工时，大样片离子束刻蚀机哪家好，对离子入射能量、束流大小、离子入射角度以及工作室压力都需要根据不同的加工需求进行调整。
离子束刻蚀可以在高精度加工、表面抛光、石英晶体谐振器制作等方面得到应用。
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离子束技术的应用涉及物理、化学、生物、材料和信息等许多学科的交叉领域。离子束加工在许多精密、关键、高附加值的加工模具
等机械零件的生产中得到了广泛应用。一些***用于军事装备的建设上，如改善蜗轮机主轴承、精密轴承、齿轮、冷冻机阀门和活塞的性能。离子注入半导体掺杂已成为超大规模集成电路微细加工的关键工艺，导致出现了80年代集成电路产业的腾飞。
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