真空镀膜机对环境的要求
真空镀膜机在使用的时候，难免会因为使用的问题使得真空镀膜机沾上其他污染物，所以经常清洗真空镀膜机也成为***机器的一个重要部分，在真空镀膜机使用镀膜材料镀膜之前，对镀膜材料做简单的表面清洁能延长镀膜机使用寿命，因为各种污染物不仅使真空系统不能获得所要求的真空度，还会影响真空部件连接处的强度和密封性能。
一般在使用中，真空镀膜机常见的污染物有：
1、油脂包括加工、装配、操作的时候沾染上的润滑剂、切削液、真空油脂等；
2、操作时候的手汗，吹气的时候的水汽和唾液等等；酸、碱、盐类物质清洗时的残余物质、手汗、水中的矿物质等；还有抛光残渣及环境空气中的尘埃和其它有机物。
清洁这些污染物可以改进真空镀膜机工作稳定性，使工作可以更顺利的进行。
什么是真空镀膜技术？
所谓真空镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。
在真空条件下成膜有很多优点：可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低。
真空镀膜过程的对于溅射类镀膜到底多重要？
可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且***终沉积在基片表面，经历成膜过程，***终形成薄膜。
溅射镀膜又分为很多种，总体看，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。
溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射)，晶向(外沿)生长的控制也比较一般。以pld为例，因素主要有：靶材与基片的晶格匹配程度、镀膜氛围(低压气体氛围)、基片温度、激光器功率、脉冲频率、溅射时间。
对于不同的溅射材料和基片，参数需要实验确定，是各不相同的，镀膜设备的好坏主要在于能否精准控温，能否保证好的真空度，能否保证好的真空腔清洁度。MBE分子束外沿镀膜技术，已经比较好的解决了如上所属的问题，但是基本用于实验研究，工业生产上比较常用的一体式镀膜机主要以离子蒸发镀膜和磁控溅射镀膜为主。
