***结晶采用真空型oslo结晶器，热的***溶液通过进料泵输送到结晶器内，在真空作用下闪蒸出一部分水分，带走热量、降低溶液温度、提高溶液浓度，从而产生过饱和度使***晶体长大。整套装置采用连续化自动化操作，目前在多个公司已经成功使用，结晶颗粒和能耗、操作环境等均比间歇罐式操作有着很大的提高与改善。***结晶器供应
在蒸发结晶过程中,过饱和度的产生速率取决于蒸发速率,即设备的蒸发强度。蒸发强度愈大,其产生过饱和度的速度愈快,越易形成过高的过饱和度。而过饱和度的消除主要依赖于晶体的自发成核和晶体的成长过程。如果在结晶器内,具有足够的晶体表面和较快的成长速率,由于蒸发所产生的过饱和度,能全部成长在晶体表面上,溶液的过饱和度不会因为超过溶液的***大过饱和度而使溶质以成核过程来消除过饱和度,从而不会产生大量的晶核。
如果溶液中晶体表面不足,晶体的生长不足以消除由于蒸发所产生的过饱和度,使得溶液的过饱和度过高,而处于不稳定区域,溶液的过饱和度将以自发成核过程来消耗过饱和度,从而形成大量的细小颗粒。因而需要对蒸发结晶过程中的蒸发强度进行控制，使结晶体系的过饱和度始终处于结晶介稳区之内，从而保证所设计的蒸发结晶设备能生产出符合设计任务要求的产品。
晶体在生长区的停留时间越长,晶体生长的时间越长,晶体粒度越大。大粒度晶体的生成必须有足够的生长时间。我们将在准确的结晶动力学数据的基础上,根据晶体生长速率和设计任务中所要求的粒度设计成合适的OSLO结晶器。
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