如何真空镀膜(铝)机如何解决溅铝
真空蒸镀金属薄膜是在真空条件下，将金属蒸镀在薄膜基材的表面而形成复合薄膜的一种新工艺。被镀金属材料可以是金、银、铜、锌、铬、铝等，其中用的多的是铝。在塑料薄膜或纸张表面（单面或双面）镀上一层极薄的金属铝即成为镀铝薄膜，它广泛地用来代替铝箔复合材料如铝箔／塑料、铝箔／纸等使用。镀铝薄膜与铝箔复合材料相比具有以下特点：
1）大大减少了用铝量，节省了能源和材料，降低了成本，复合用铝箔厚度多为7～gpm，而镀铝薄膜的铝层厚度约为0．05n左右，其耗铝量约为铝箔的1／140～1／180，且生产速度可高达450m／min。
2）具有优良的耐折性和良好的韧性，很少出现孔和裂口，无揉曲龟裂现象，因此对气体、水蒸汽、气味、光线等的阻隔性提高。
3）具有***的金属光泽，光反射率可达97％；且可以通过涂料处理形成彩色膜，其装潢效果是铝箔所不及的。
4）可采用屏蔽式进行部分镀铝，以获得任意图案或透明窗口，能看到内装物。
5）镀铝层导电性能好，能消除静电效应；其封口性能好，尤其包装粉末状产品时，不会污染封口部分，保证了包装的密封性能。
6）对印刷、复合等后加工具有良好的适应性。由于以上特点，使镀铝薄膜成为一种性能优良、经济美观的新型复合薄膜，在许多方面已取代了铝箔复合材料。主要用于风味食品、农产品的真***装，以及***、化妆品的包装。另外，镀铝薄膜也大量用作印刷中的烫金材料和商标标签材料等。
真空镀膜机设备真空镀膜机系统组成
真空镀膜机等离子体束溅射镀膜机主要由射频等离子体源、真空获得系统、电磁线圈（发射线圈及汇聚线圈）、偏压电源、真空室（包括靶材及基片等）、真空控制系统等部分构成。其显著特点是它的等离子体发生控制系统，其示意图如图1所示。等离子体发生控制系统是镀膜机中的关键部分，其中射频等离子体源位于真空室的侧面，并在等离子体源的出口处及溅射靶材的下方分别配置有一个电磁线圈。当两个线圈同向通过电流时，线圈合成的磁场将引导等离子体源中产生的电子沿磁场方向运动，从而使等离子体束被约束在磁场方向上。同时靶材加有负偏压，使溅射离子在电场的作用下加速撞击靶表面，产生溅射作用。
真空镀膜机等离子体发生控制系统
真空镀膜机这种镀膜机具有非常灵活的控制方式，例如溅射速率可以通过调节靶材偏压和改变等离子体源的射频功率这两种途径进行调节。等离子体发生装置与真空室的分离设计是实现溅射工艺参数宽范围可控的关键，而这种参数阔范围的可控性使得特定的应用能够获得优化的工艺参数。此外，还可以通过控制系统的真空度来进行溅射速率的调节。
真空镀膜机中所示曲线为靶电流与偏压曲线、恒定电流密度时溅射速率与靶偏压的关系，其中恒定电流时射频功率为500W。
真空电镀设备的主要工作流程
真空电镀设备是利用在高度真空的条件进行金属加热，使金属起到融化或者蒸发的作用，并且对金属物品中的表面形成金属薄膜的作用。虽然真空电镀设备的操作流程比较简单，但是在工作中还需要遵循一定的条件和流程：
1、温度要求：模溫在45-95摄氏度为宜(比非电镀件高20摄氏度)。
2、采用较高的注塑温度，这样可以提高镀层的附着力。
3、注塑压力宜低，注塑速度宜慢，通常应比非电镀件的成型速度慢一倍。
4、原材料应在80-90摄氏度下烘干4小时，否则残留的水分将会在成型零件表面产生气泡，流线纹而影响外观。
5、不要使用胶模剂，否则会对镀层的附着力产生很不利的影响，若脱模实在困难，也只能使用滑石粉或肥皂水作脱模剂。
