







真空镀膜过程的对于溅射类镀膜到底多重要?
可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且***终沉积在基片表面,经历成膜过程,***终形成薄膜。
溅射镀膜又分为很多种,总体看,与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。
溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld,组分均匀性容易保持,而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射),晶向(外沿)生长的控制也比较一般。以pld为例,因素主要有:靶材与基片的晶格匹配程度、镀膜氛围(低压气体氛围)、基片温度、激光器功率、脉冲频率、溅射时间。
对于不同的溅射材料和基片,参数需要实验确定,是各不相同的,镀膜设备的好坏主要在于能否精准控温,能否保证好的真空度,能否保证好的真空腔清洁度。MBE分子束外沿镀膜技术,已经比较好的解决了如上所属的问题,但是基本用于实验研究,工业生产上比较常用的一体式镀膜机主要以离子蒸发镀膜和磁控溅射镀膜为主。
国内真空镀膜机械的发展
我国镀膜市场一直在扩大需求,行业的高速发展同时也带动真空设备行业的发展速度。每年我国都需要进口大量的镀膜真空设备,这些设备工艺技术比较高,可靠性强,价钱也非常之高,不可否认的是这些设备大大提高了我国部分的镀膜企业的生产水平,使之达到发达***水平;
国内的真空设备也相对引进***技术取得了巨大进步,真空镀膜设备已经达到较高水准,完全能够满足一般企业的需求,部分实力厂家产品更是销往***,譬如汇成真空。
整个镀膜行业被物理和化学镀膜占据,他们的发展左右着我国整个镀膜行业的发展,而随着环保的提倡,化学镀膜渐渐减少,环保物理镀膜占据更多江山,镀膜真空设备成为了这个行业发展的指标,政策对环保设备的大力支持未来真空设备的发展将更加广阔。
如何减少真空镀膜设备中的灰尘?
使用真空镀膜设备进行镀膜时,镀膜表面的一层灰尘会影响真空镀膜的整体效果,那么该如何减少灰尘呢?
1、使用的源材料要符合必要的纯度要求;
2、样品取出后放置环境要注意清洁的问题;
3、镀膜一段时间后,真空室内壁必须要清洁处理;
4、清洗衬底材料,必须要做到严格合乎工艺要求;
5、工作人员有专门的服装,操作要戴手套、脚套等;
6、适当的增加环境的湿度,有利于降低周围环境的悬浮固体颗粒物;
7、技术上明确允许的颗粒尺寸和单位面积颗粒物的数量的上限大致是多少;
8、室内空气流动性低、地面干净,如果是水泥地,需要覆盖处理。墙壁、屋顶不能使用一般的灰质涂料粉刷。
