溅射技术的成就之一是磁控溅射。由于在磁控溅射中引入了正交电磁场使离化率提高到5~6%。于是溅射速率比三级溅射提高10倍左右，沈阳真空设备，对许多材料，溅射速率达到了电子束蒸发的水平。
控溅射具有“低温”、“高速”两大特点。
磁控溅射是以磁场来改变电子的运动方向，并束缚和延长电子的运动轨迹，从而提高电子对工作气体的电离几率和有效的利用了电子的能量。因此，是正离子对靶材轰击所引起的靶材溅射更加有效。
所以磁控溅射具有“低温”“高速”这两大特点。
沈阳诺思真空技术有限公司（原沈阳天成真空技术有限责任公司）成立于2012年，是以超高真空技术为基础、从事各种真空应用设备研发、生产和销售为一体的技术型企业。
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真空应理解为气体较稀薄的空间，具体地讲：在空间内，低于一个大气压力的气体状态统称为真空。
真空状态下，气体稀薄程度称为真空度，通常用压力值来表示真空度的高低。
测量低于大气压的气体压强的工具称为真空计。真空计可以直接测量气体的压强，沈阳真空设备哪家好，也可以通过与压强有关的物理量来间接测量压强，前者称为真空计，沈阳真空设备价格，后者称为相对真空计。
气相沉积技术早在20世纪初已有些应用，但在***近30年迅速发展，成为一门***广阔应用前景的新技术。
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