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北京创世威纳科技有限公司

普通会员6
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企业等级:普通会员
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公司官网:www.weinaworld.com.cn
企业地址:北京市昌平区回龙观北京国际信息产业基地高新二街2号4层
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北京创世威纳科技有限公司成立于2008年,现位于北京市昌平区回龙观北京国际信息产业基地高新二街2号4层,拥有1800余平方米的组装、调试车间、办公区,现在我们更专注于真空等离子体技术,成为集研发、设计、生产、销售于一体的设备制造商。公司通过了ISO质量管理体系认证,获批高新技术企业,拥有4项发明专利......

磁控溅射-创世威纳(在线咨询)

产品编号:1111128813                    更新时间:2019-12-07
价格: 来电议定
北京创世威纳科技有限公司

北京创世威纳科技有限公司

  • 主营业务:磁控溅射镀膜机,电子束/热阻蒸发机,ICP,RIE,IBE
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产品详情






磁控溅射种类

磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点:利用磁场与电场交互作用,使电子在靶表面附近成螺旋状运行,从而增大电子撞击Ar产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。靶源分平衡和非平衡式,平衡式靶源镀膜均匀,非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜,非平衡多用于磨损装饰膜。磁控阴极按照磁场位形分布不同,大致可分为平衡态和非平衡磁控阴极。平衡态磁控阴极内外磁钢的磁通量大致相等,两极磁力线闭合于靶面,很好地将电子/等离子体约束在靶面附近,增加碰撞几率,磁控溅射,提高了离化效率,因而在较低的工作气压和电压下就能起辉并维持辉光放电,靶材利用率相对较高,但由于电子沿磁力线运动主要闭合于靶面,基片区域所受离子轰击较小.非平衡磁控溅射技术概念,即让磁控阴极外磁极磁通大于内磁极,两极磁力线在靶面不完全闭合,部分磁力线可沿靶的边缘延伸到基片区域,从而部分电子可以沿着磁力线扩展到基片,增加基片磁控溅射区域的等离子体密度和气体电离率.不管平衡非平衡,若磁铁静止,其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率,可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构,同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备,多用磁场静止靶源。

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【磁控溅射镀膜设备】行业前景怎样

下列是创世威纳为您一块儿共享的內容,创世威纳厂家批发磁控溅射镀膜机,热烈欢迎新顾客亲临。

那麼磁控溅射镀膜设备可以运用于哪一方面呢?在硬塑镀层中的运用:例如切削刀具、模具和耐磨损抗腐蚀等零配件。在安全防护镀层中的运用:飞机发动机的叶子、小车厚钢板、散热器等。在光学薄膜行业中的运用:增透膜、高原反应膜、截至滤光片、防伪标识膜等。在建筑玻璃层面的运用:太阳操纵膜、低辐射夹层玻璃、防雾防露和自清洁玻璃等。在太阳能利用应用领域:太阳能发电集热器、太阳电池等。在集成电路芯片生产制造中的运用:塑料薄膜变阻器、薄膜电容器、塑料薄膜温度感应器等。在信息内容显示信息应用领域:液晶显示屏、低温等离子屏等。在信息内容储存应用领域:磁信息内容储存、磁光信息内容储存等。在装饰设计装饰品上的运用:手机套、表带、眼镜框、五金配件、装饰品等镀一层薄薄的膜。










真空磁控溅射镀膜

说白了无心插柳就是说用荷能物体(一般 用稀有气体的正离子)去轰击固态(下列称靶材)表层,进而造成靶材表层上的分子(或分子结构)从在其中逸出的这种状况。这一状况是格洛夫(Grove)于1842年在试验科学研究阴极浸蚀难题时,阴极原材料被转移到真空管内壁而发觉的。

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磁控溅射-创世威纳(在线咨询)由北京创世威纳科技有限公司提供。北京创世威纳科技有限公司(.cn)为客户提供“磁控溅射镀膜机,电子束/热阻蒸发机,ICP,RIE,IBE”等业务,公司拥有“创世威纳”等品牌。专注于电子、电工产品制造设备等行业,在北京 昌平区 有较高知名度。欢迎来电垂询,联系人:苏经理。

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