中诺新材具备坚实的研发和生产能力，可以根据客户的需求***为您定制各种尺寸、不同纯度的金属、稀有金属，生产销售高纯碲靶材，特种合金、陶瓷靶材及蒸发镀膜材料。产品技术含量高、质量稳定、创新性强，广泛应用于特种合金熔炼，电子半导体，平板显示、光磁记录介质、太阳能光伏、功能性镀膜等领域，能满足您在科学研究、工业研发生产各个阶段的综合需求。
高纯钨的制备方法可分为粉末冶金法、熔炼法和化学气相沉积法。
1、粉末冶金法：指钨粉经过成形后，加热到其熔点下的某个温度，研究用高纯碲靶材 碲靶，通过物质迁移完成致密化的过程，***终可得到钨坯或某些形状简单的钨制品。
2、熔炼法：指将钨原料加热到其熔点以上形成液相，去除杂质后再冷却凝固实现致密化的过程，高纯碲，根据所采用的手段不同，具体方法有真空自耗电弧熔炼法、电子束熔炼法和等离子束熔炼法等。
3、化学气相沉积：指以钨化合物气体（一般为WF6）为钨源，在一定温度下被H2还原，将生成的钨沉积在特定的基底上，沉积完成后去除基底材料获得致密钨坯（或者制品）的过程。
定制化生产是中诺新材的一大特色。以***的生产设备，高纯碲颗粒 碲块 碲粉，规范的加工流程，经验丰富的技术人员为后盾，我们可定制化生产加工不同纯度规格尺寸的产品。
高纯箔材片材：厚度0.01-3.00mm
高纯丝材棒材：直径0.01-10mm
坩埚蒸发耗材：钨，钼，钽，石墨，氮化硼等坩埚，各尺寸蒸发线圈。蒸发舟。
单晶衬底基片：不同尺寸，电阻单晶硅片。石英衬底，金属单晶基片
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