





离子束刻蚀机
离子束刻蚀是从工件上去除材料,离子束刻蚀机,是一个撞击溅射过程。
当离子束轰击工件,入射离子与靶原子碰撞时将动能传递给靶原子,使其获得的能量超过原,子的结合能,导致靶原子发生溅射,从工件表,面溅射出来,以达到刻蚀的目的。
刻蚀加工时,对离子入射能量、束流大小、离子入射角度以及工作室压力都需要根据不同的加工需求进行调整。
离子束刻蚀可以在高精度加工、表面抛光、石英晶体谐振器制作等方面得到应用。


反应离子刻蚀的原理
在反应离子刻蚀中,气体放电产生的等离子体中有大量化学活性的气体离子,这些离子与材料表面相互作用导致表面原子产生化学反应,生成可挥发产物。这些挥发产物随真空抽气系统被排走。随着材料表层的“反应-剥离-排放”的周期循环,材料被逐层刻蚀到特定深度。除了表面化学反应外,带能量的离子轰击材料表面也会使表面原子溅射,产生一定的刻蚀作用。所以,反应离子刻蚀包括物理和化学刻蚀两者的结合。
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离子束刻蚀机
高精度加工
离子束刻蚀可达到很高的分辨率,适合刻蚀精细图形。离子束加工小孔的优点是孔壁光滑,邻近区域不产生应力和损伤能加_工出任意形状的小孔,离子束刻蚀机哪家好,且孔形状只取决于掩模的孔形。
加工线宽为纳米级的窄槽是超精微加工的需要。如某零件要求在10nm的碳膜上,用电子束蒸镀10nm的金一铝(60/40)膜。
首先将样品置于真空系统中,其表面自然形成---种污染抗蚀剂掩模,用电子束***显影后形成线宽为8nm的图形,离子束刻蚀机多少钱,然后用ya离子束刻蚀,离子束流密度为0.1mA/cm, 离子能量是1keV;另一种是在20nm厚的金一钯膜上刻出线宽为8nm的图形、深宽比提高到2.5:10。 由此可见离子束加工可达到很高的精度。


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