PVD真空镀膜机镀膜技术工艺步骤及原理
厂家在采购PVD真空镀膜机时，商家都会培训PVD真空镀膜机的相关知识，如镀膜技术工艺步骤、原理、***维护方法，机器的运行注意事项等等，今天至成小编为大家介绍一下PVD真空镀膜机镀膜技术工艺步骤和原理。
PVD真空镀膜机镀膜技术工艺步骤，分为以下四个步骤：
（1）清洗工件：接通直流电源，Ar气进行辉光放电为Ar离子，Ar离子轰击工件表面，工件表层粒子和脏物被轰溅抛出；
（2）镀料的气化：即通入交流电后，使镀料蒸发气化。
（3）镀料离子的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞以及高压电场后，高速冲向工件；
（4）镀料原子、分子或离子在基体上沉积：工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。
如果是镀离子镀时，蒸发料粒子电离后具有三千到五千电子伏特的动能，高速轰击工件时，不但沉积速度快，而且能够穿透工件表面，形成一种注入基体很深的扩散层，离子镀的界面扩散深度可达四至五微米，也就是说比普通真空镀膜的扩散深度要深几十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特别牢。
磁控真空镀膜机做渐变色原理
现在很多物件都镀有渐变色，颜色很绚丽也很显目，现在很多牌子手机壳也应用了这种渐变色，因此，渐变色也越来越受人们关注，渐变色制作原理也激起了大家的兴趣，今天至成小编为大家详细介绍一下真开工镀膜机做渐变色的原理和方法，希望能帮助到大家。
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等。主要思路是分成蒸发和溅射两种。而渐变色的工艺制法一般用的磁控溅射镀膜设备，目前华为、联想等多款手机渐变色外壳都采用了PVD真空渐变镀膜工艺。
磁控溅射真空镀膜设备是现有产品在真空条件下镀膜使用的多的一种设备，一台完整的磁控溅射真空镀膜机是由多部分系统组成的，每个系统可以完成不同的功能，从而实现***终的高品质镀膜，磁控溅射镀膜其组成包括真空腔、机械泵、真空测试系统、油扩散泵、抽真空系统、冷凝泵以及成膜控制系统等等。
磁控溅射真空镀膜机的主体是真空腔，真空腔大小是由加工产品所决定，磁控溅射镀膜的大小能定制，腔体一般是用不锈钢材料制作，要求结实耐用不生锈等。磁控溅射镀膜真空腔有许多连接阀用来连接各种辅助泵。
磁控溅射镀膜成膜控制系统能采用不同方式，比如固定镀制时间、目测、监控以及水晶震荡监控等。真空镀膜机、真空镀膜设备镀膜方式也分多种工艺，常用的有离子蒸发镀膜和磁控溅射镀膜。磁控溅射方式镀制的膜层附着力强，膜层的纯度高，可以同时溅射多种不同成分的材料。
因此现在市面上有多功能离子真空镀膜机的出现，通过大量试验及工业化应用，本项目得出以下结论：
（1）所设计的多种镀膜技术复合的多功能离子镀膜机是成功的。
（2）该设备可大面积低成本制备表面光洁致密、平滑细腻，性能优异的类金刚石膜及金属氮（或碳）化物多元多层膜。
（3）采用特殊的多层梯度中间过渡层及掺杂技术，降低了内应力，提高了膜/基结合力，有利于膜层生长（***厚达6mm）。
（4）所制备DLC膜具有优异的综合性能：硬度gt;20GPa（高达37.25GPa），厚度可调（***厚达6mm），膜/基结合力gt;50N（高达100N），摩擦系数lt;0.2，膜层光洁细腻。
（5）所开发出的基体/Cr/CrN/CrTiAlN/CrTiAlCN/CrTiC/DLC多元多层耐磨耐热自润滑涂层具有良好的综合性能：硬度高达28.7GPa，厚度1-4mm可调，膜/基结合力大于70N，摩擦系数小于0.2。
（6）所研制的耐磨减摩膜已成功应用于多种高精密工模具以及精密关键部件上。应用结果表明：膜层的表面强化效果显著，可大幅度提高产品质量及使用寿命。
